[实用新型]一种研磨液自动调控装置有效
申请号: | 202121406401.9 | 申请日: | 2021-06-23 |
公开(公告)号: | CN214973721U | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 陈峰;洪章源 | 申请(专利权)人: | 厦门陆远科技有限公司 |
主分类号: | B01F15/00 | 分类号: | B01F15/00;B01F15/02;B01F3/22;B01F3/20;B01F15/06;B01F13/00;B01D29/56;G05D27/02;B24B57/00 |
代理公司: | 厦门律嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 35225 | 代理人: | 李增进 |
地址: | 361000 福建省厦门市厦门火炬高新区(翔安)产*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 自动 调控 装置 | ||
本实用新型涉及机械领域,公开了一种研磨液自动调控装置,其包括过滤池、混合桶、添加液桶和控制器。混合桶上设置有加热器。混合桶底部设置有温度传感器和PH值检测器。混合桶上设置有用于过滤和缓冲水冲击的缓冲过滤组件。缓冲过滤组件包括缓冲主体,缓冲主体上设置有进液过滤块。缓冲主体的出口处朝进液口方向倾斜设置,并与混合桶内壁留有缝隙。本实用新型通过检测温度传感器、PH值检测器的数值来控制加液泵、抽液泵和加热器对回收的研磨液进行温度、PH值进行自动调节,以达到设定值,从而维持回流研磨液的使用效果。缓冲过滤组件的设置不仅能够起到再次过滤的作用,还能可减小水流流下冲击导致底部沉淀物漂浮的问题。
技术领域
本实用新型涉及机械领域,尤其是一种研磨液自动调控装置。
背景技术
现有的研磨抛光设备主要通过研磨液和研磨片对晶圆片进行抛光,其原理为通过研磨片与晶圆片表面产生摩擦作用,进行抛光;研磨液对晶圆片表面产生化学反应,增加抛光效率,同时也起到冷却、润滑的作用。为了节约成本和资源再利用,需要对研磨液进行回收再利用,但是对研磨液直接过滤回收使用,产生的化学反应效果大打折扣,影响研磨加工效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种研磨液自动调控装置,可对回收后的研磨液进行自动温度调节和PH调节,而且通过多层过滤使得回流的研磨液不仅无杂质颗粒,而且能起到与新研磨液一样的化学反应效果。
为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型公开了一种研磨液自动调控装置,其包括过滤池、混合桶、添加液桶和控制器。所述添加液桶内设置有用于调节研磨液PH值的添加液。所述混合桶上设置有进液口、出液口、加液口和加热器。所述过滤池通过连接管与进液口连通,添加液桶通过加液管与加液口连通。出液口通过回流管与研磨机台连接。所述加液管和连接管上分别连接有加液泵和抽液泵;所述混合桶底部设置有温度传感器和PH值检测器;所述控制器分别与加液泵、抽液泵、温度传感器、PH值检测器和加热器连接,控制加液泵、抽液泵和加热器的运行。所述混合桶上设置有用于过滤和缓冲水冲击的缓冲过滤组件;所述缓冲过滤组件位于进液口下方;所述缓冲过滤组件包括缓冲主体,所述缓冲主体上设置有进液过滤块;所述缓冲主体的出口处朝进液口方向倾斜设置,并与混合桶内壁留有缝隙。
进一步地,所述过滤池中间设置有隔板,将过滤池隔成底部连通的第一过滤池和第二过滤池,所述第一过滤池上设置有第一过滤块,第二过滤池上设置有第二过滤块;所述第一过滤块设置的位置高于第一过滤块;所述第一过滤块上方设置有研磨液回收管;所述连接管设置于第二过滤块上方。
进一步地,所述回收管和连接管位于过滤池的端口上设置有过滤头。
进一步地,所述添加液桶内的添加液为碱性添加液。
进一步地,所述混合桶上还设置有溢流口;所述溢流口通过溢流管与溢流桶连通。
进一步地,所述溢流口、进液口、出液口和加液口上均设有水阀开关。
本实用新型的有益之处为:
1、本实用新型的控制器通过检测温度传感器、PH值检测器的数值来控制加液泵、抽液泵和加热器对回收的研磨液进行温度、PH值进行自动调节,以达到设定值。通过过滤池和缓冲过滤组件对回收的研磨液进行多层过滤,使得回流的研磨液不仅无杂质颗粒,而且能起到与新研磨液一样的化学反应效果。
2、本实用新型的缓冲过滤组件的出口处朝进液口方向倾斜设置,并与混合桶内壁留有缝隙,使得从进液口流入的回收液能够沿着桶壁流下,可减小水流流下冲击导致底部沉淀物漂浮的问题。
3、本实用新型的过滤池设置有将切削液从上到下过滤的第一过滤池和将研磨液从下到上过滤的第二过滤池;使得过滤更加彻底。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
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