[实用新型]一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜有效
| 申请号： | 202121441614.5 | 申请日： | 2021-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN215388875U | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 戴志立 | 申请（专利权）人： | 上海顶煦化学品有限公司 |
| 主分类号： | B01F27/90 | 分类号： | B01F27/90;B01F27/906;B01F27/85;B01F35/92;B01F27/112;B01F27/1125;B01F27/2322 |
| 代理公司： | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人： | 马正红 |
| 地址： | 201500 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 表面 处理 生产 低速 搅拌 | ||
1.一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜，包括罐体(1)，其特征在于：所述罐体(1)的顶部设置有罐盖(5)，所述罐盖(5)的顶部设置有电机(3)，所述电机(3)的底部设置有转轴(6)，所述转轴(6)的外壁设置有搅拌桨(22)，所述搅拌桨(22)的外壁设置有切割刀片(23)，所述转轴(6)的底部设置有安装板(16)，所述转轴(6)的底部外壁设置有主动齿轮(24)，所述主动齿轮(24)的两侧均设置有从动齿轮(11)，所述从动齿轮(11)的顶部设置有搅拌轴(7)，所述搅拌轴(7)的外壁设置有搅拌叶(10)，所述罐体(1)的底部设置有排料管(14)，所述罐盖(5)的顶部一侧设置有进料口(2)。
2.根据权利要求1所述的一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜，其特征在于：所述罐体(1)的外壁设置有冷却腔(19)，所述冷却腔(19)的外部设置有加热腔(18)，所述冷却腔(19)的外壁设置有第二进水管(21)、第二出水管(25)和第一出水管(9)，所述冷却腔(19)的一侧设置有进水口(8)。
3.根据权利要求2所述的一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜，其特征在于：所述加热腔(18)的内部设置有加热板(17)，所述加热腔(18)的外壁设置有第一进水管(20)。
4.根据权利要求1所述的一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜，其特征在于：所述搅拌叶(10)呈弧形，所述主动齿轮(24)与从动齿轮(11)相啮合。
5.根据权利要求1所述的一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜，其特征在于：所述电机(3)的底部设置有安装座(4)，所述罐体(1)的底部设置有支撑座(12)。
6.根据权利要求2所述的一种用于表面处理剂生产的低速搅拌釜，其特征在于：所述加热腔(18)的底部设置有第二排水管(15)，所述冷却腔(19)的底部设置有第一排水管(13)。
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