[实用新型]一种镀膜蒸发料的分拣装置有效
申请号: | 202121451439.8 | 申请日: | 2021-06-28 |
公开(公告)号: | CN215314029U | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;时晓旭 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | B07C5/18 | 分类号: | B07C5/18;B03C1/02;C23C14/24 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀膜 蒸发 分拣 装置 | ||
本实用新型涉及一种镀膜蒸发料的分拣装置,所述分拣装置包括依次连接的振动盘、称重分拣机以及磁选装置,所述振动盘为螺旋振动盘,螺旋振动盘中设置有输送柱状料的滑道。本实用新型所述分拣装置能够区分成分不同但颜色相同的同规格蒸发料,防止蒸发料的混料;而且采用称重分拣机进行分拣,节约了人力输出,提高了效率;同时,所述分拣装置结构简单,成本较低,便于工业化应用。
技术领域
本实用新型属于半导体技术领域,涉及一种蒸发料的处理装置,尤其涉及一种镀膜蒸发料的分拣装置。
背景技术
随着集成电路产业的快速发展,半导体电子器件的需求量也日益增加,镀膜材料是半导体电子器件制造的重要材料,而镀膜材料的重要制备方法之一是物理气象沉积法(PVD)。物理气相沉积是一种在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材及其反应物沉积在工件上。目前,物理气相沉积法是半导体芯片制造业、太阳能行业、液晶显示屏制造业等多种行业的核心技术。PVD主要包括磁控溅射和蒸发镀膜,其中后者常用的原料为蒸发料,由于蒸发镀膜技术具有污染程度小的优点,应用范围越发广泛。
CN 111394697A公开了一种金属蒸发料的表面处理方法,所述表面处理方法包括如下步骤:将金属蒸发料采用有机溶剂进行超声波清洗;将超声波清洗后的金属蒸发料进行酸洗,酸洗所用酸洗液为无机混合酸;将酸洗后的金属蒸发料再次进行超声波清洗后干燥处理。通过对金属蒸发料依次进行超声波清洗、酸洗,可有效去除蒸发料表面的杂质和氧化层,提高蒸发料的结晶度以及纯度。
CN 112872077A公开了一种高纯银蒸发料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:(1)将高纯银锭和挤压磨具经预热后进行挤压作业,得到直径为8-10mm的中间料;(2)将中间料进行拉拔处理,得到直径为3-6mm的高纯银蒸发料。所述制备方法采用将挤压和拉拔处理相结合,控制挤压作业产品的直径,以保证拉拔时具有特定的进料直径,并控制最终高纯银蒸发料产品的直径实现了高性能银蒸发料的制备。
CN 108754183A公开了一种钛蒸发料的制备方法和钛蒸发料,其制备方法包括如下步骤:对原料钛进行预处理;将预处理后的钛在清洗油中超声波振荡10-20min,然后在蒸汽干燥系统中超声波振荡5-15min;再酸洗3-6min;然后在水中超声波振荡5-10min,再进行干燥;将得到的钛放入离心研磨机中,加入清洗剂和水进行离心研磨;所述清洗剂用量为30-50mL,研磨转速为180-200r/min,研磨时间为10-20min;对得到的钛进行后处理,得到钛蒸发料。
上述方法能够得到纯度较高的蒸发料。但在蒸发镀膜技术领域,在蒸发料使用之前需要对蒸发料进行区分。但金属蒸发料存在筛分困难的问题,例如铝蒸发料中混入银蒸发料,钛蒸发料中混入镍蒸发料,会对使用带来巨大的隐患。
因此,需要提供一种对镀膜蒸发料进行分拣的装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种镀膜蒸发料的分拣装置,所述分拣装置能够区分成分不同但颜色相同的同规格蒸发料,防止蒸发料的混料;而且采用称重分拣机进行分拣,节约了人力输出,提高了效率;同时,所述分拣装置结构简单,成本较低,便于工业化应用。
为达到此实用新型目的,本实用新型采用以下技术方案:
第一方面,本实用新型提供了一种镀膜蒸发料的分拣装置,所述分拣装置包括依次连接的振动盘、称重分拣机以及磁选装置。
所述振动盘为螺旋振动盘,螺旋振动盘中设置有输送柱状料的滑道。
本实用新型所述分拣装置能够区分成分不同但颜色相同的同规格蒸发料,防止蒸发料的混料;而且采用称重分拣机进行分拣,节约了人力输出,提高了效率;同时,所述分拣装置结构简单,成本较低,便于工业化应用。
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