[实用新型]一种基于H型气浮导轨的运动平台有效
申请号: | 202121461426.9 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN215148808U | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 李存;李佳 | 申请(专利权)人: | 昆山仁合汇精密量具有限公司 |
主分类号: | B25H1/00 | 分类号: | B25H1/00;B25H1/14 |
代理公司: | 苏州根号专利代理事务所(普通合伙) 32276 | 代理人: | 项丽 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 型气浮 导轨 运动 平台 | ||
本实用新型涉及基于H型气浮导轨的运动平台,包括底座和设置在底座上的气浮工作台,气浮工作台包括至少两条相互平行设置的第一工作台和与第一工作台相垂直的第二工作台,第一工作台上设置有第一滑块,第一滑块的上端设置有真空预载面,真空预载面和第二工作台相联动,第二工作台上设置有第二滑块,第二滑块上端设置有承载面,承载面用于承载工件,第二滑块和第一滑块均为真空预压式气浮滑块,底座上还设置有用于第一滑块和第二滑块直线运动的电机;真空预压式气浮滑块的刚度高于普通气浮板,承载的重量也大于普通气浮板,第一滑块和第二滑块均为整体式结构,包裹在气浮工作台的外围,整体速度和精度均能达到较高要求。
技术领域
本实用新型涉及精密运动平台,特别是涉及基于H型气浮导轨的运动平台。
背景技术
随着先进电子制造特征尺寸越来越小,电子制造设备对运动平台的移动精度的要求也越来越高,如精磨测量、精密加工、半导体制造等。目前精密运动的平台,主要使用气浮导轨,气浮导轨由于运用气体作为润滑介质,将运动部件和导轨隔开,减小了二者的摩擦,使得精度、速度均有了质量的提升。
现有的H型气浮平台,或使用气浮块进行组装,装配简单且后期维护轻松,但进行组装的运动平台在速度和精度方面难以达到很高的要求,气浮平台常发生防止封闭式的刚性结构长时间运动发生气浮面磨坏的情况,为了避免这一现象,本实用新型中运动平台和滑块均使用真空吸附提供预加载力,以实现高精度运行。
实用新型内容
本实用新型目的是要提供一种基于H型气浮导轨的运动平台,解决了H型气浮平台运动精度不高的问题。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
本实用新型提供了一种基于H型气浮导轨的运动平台,包括底座和设置在所述底座上的气浮工作台,所述气浮工作台包括至少两条相互平行设置的第一工作台和与所述第一工作台相垂直的第二工作台,所述第一工作台上设置有第一滑块,所述第一滑块的上端设置有真空预载面,所述真空预载面和所述第二工作台相联动,所述第二工作台上设置有第二滑块,所述第二滑块上端设置有承载面,所述承载面用于承载工件,所述第二滑块和第一滑块均为真空预压式气浮滑块,所述底座上还设置有用于第一滑块和所述第二滑块直线运动的电机。
优选地,所述第一工作台和第二工作台上均设置有光栅尺。
优选地,所述真空预载面的一侧还设置有限位件,所述气浮工作台上的一端还设置有限位杆,限位杆位于所述限位件的移动路径中。
进一步地,所述底座上还设置有固定工装,所述固定工装设置在所述第二工作台的两侧。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
本实用新型的基于H型气浮导轨的运动平台,包括底座、设置在底座上的两条相互平行的第一工作台、与第一工作台垂直的第二工作台、设置在第一工作台上第一滑块和设置在第二工作台上的第二滑块,第一滑块的上端面设置有真空预载面,真空预载面和第二工作台相连接并且相联动,第二滑块上端设置有承载面,承载面可用于承载工件,第一滑块和第二滑块均为真空预压式气浮滑块,真空预压式气浮滑块的刚度高于普通气浮板,承载的重量也大于普通气浮板,第一滑块和第二滑块均为整体式结构,包裹在气浮工作台的外围,整体速度和精度均能达到较高要求。
附图说明
后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本实用新型的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解,这些附图未必是按比例绘制的。附图中:
图1是本实用新型优选实施例的结构示意图。
其中,附图标记说明如下:
1、底座;2、第一工作台;3、第二工作台;4、真空预载面;5、承载面;6、侧板;7、光栅尺;8、限位件;9、限位杆;10、固定工装。
具体实施方式
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