[实用新型]一种可调节出光区域模拟同轴组合光源有效
申请号: | 202121464868.9 | 申请日: | 2021-06-29 |
公开(公告)号: | CN215569958U | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 刘向辉;彭勇;吴选胜 | 申请(专利权)人: | 茉丽特科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | F21S8/00 | 分类号: | F21S8/00;F21V19/00;F21V5/00;F21Y115/10 |
代理公司: | 深圳市海顺达知识产权代理有限公司 44831 | 代理人: | 谢燕钿 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 调节 区域 模拟 同轴 组合 光源 | ||
本实用新型提供一种可调节出光区域模拟同轴组合光源,包括同轴光源主体,同轴光源主体底部设置有出光孔,在出光孔侧边设置有补光组件,采用其结构,通过在同轴光源主体底部出光孔侧边设置补光组件,能有效的补充被测物体边缘区域的对比度,提高分辨率,从而解决因同轴光源设置在物体和镜头之间的距离导致被测物边缘变虚、边缘区域分辨率差的问题,有效的提高机器视觉识别的准确性。
技术领域
本实用新型涉及视觉同轴光源的技术领域,尤其涉及一种可调节出光区域模拟同轴组合光源。
背景技术
机器视觉是用光机电装置代替人眼来做测量和判断,通过由相机镜头光源组成的系统将被测目标转换成图像信号,传送给计算机图像处理系统,根据像素等信息,转成数字信号;图像处理系统对信号进行各种运算来获得目标的特征,进而根据判别的结果来控制现场需要的各种动作。
照明是影响机器视觉系统输入的重要因素,它直接影响输入数据的质量和应用效果。目前主要使用的结构化的照明的方式,光源直接或间接照射在物体表面上。
目前,为了解决机器视觉照明不同场景,同轴光源提供了比传统光源更均匀的照明,提高了机器视觉的准确性和重现性,但是有中间有半透半反射玻璃,当同轴光源用于物体和镜头之间时距离会影响成像的精度,其可能导致边缘变虚,边缘区域分辨率差。
实用新型内容
为解决上述问题,本实用新型提供一种可调节出光区域的模拟同轴组合光源,包括同轴光源主体,同轴光源主体底部设置有出光孔,在出光孔侧边设置有补光组件。
优选地,补光组件包括LED灯板和扩散膜,LED灯板的发出的光能够照射在扩散膜上。
优选地,同轴光源主体包括上盖板、底板、左侧板、右侧板、前挡板和后挡板,由上盖板、底板、左侧板、右侧板、前挡板和后挡板通过螺钉组装成同轴光源框架,出光孔设置在底板上。
优选地,补光组件还包括用于LED灯板导热的第一导热片,第一导热片设置在LED灯板的背面。
优选地,还包括窗盖板,上盖板上设置有窗口和设置在窗口外围的盖板槽,窗盖板的外围设置在盖板槽中并将窗口封闭。
优选地,补光组件数量为两组,左侧板和右侧板上分别设置有与两组补光组件配合的安装槽,补光组件设置在安装槽中。
优选地,还包括定位框,安装槽包括用于定位LED灯板的定位部,定位部上设置有向内倾斜的斜面,定位框将扩散膜四周压合在斜面上。
优选地,补光组件的形状为长条形。
优选地,底板的数量为多个,多个底板的出光孔尺寸不同,可调节出光区域模拟同轴组合光源能够根据需要更换不同的底板。
优选地,还包括第二导热片,同轴光源主体内还设置有灯板组件,灯板组件为PCB板,PCB板上设置有多颗LED灯,第二导热片设置在PCB板的背面。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该实用新型通过在同轴光源主体底部出光孔侧边设置补光组件,能有效的补充被测物体边缘区域的对比度,提高分辨率,从而解决因同轴光源设置在物体和镜头之间的距离导致被测物边缘变虚、边缘区域分辨率差的问题,有效的提高机器视觉识别的准确性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为实用新型产品结构示意图;
图2为实用新型产品分解结构示意图;
图3为实用新型产品另一角度结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于茉丽特科技(深圳)有限公司,未经茉丽特科技(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121464868.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种显示装置及其背光源模组
- 下一篇:高纯级三氟化氯的反应装置