[实用新型]一种抗背反射高对比度激光器及光纤耦合系统有效

专利信息
申请号: 202121527542.6 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN215221269U 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 陈建强;王嘉星 申请(专利权)人: 深圳博升光电科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;G02B6/42
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 反射 对比度 激光器 光纤 耦合 系统
【权利要求书】:

1.一种抗背反射高对比度激光器,其特征在于,包括层叠设置的第一反射器层、发光层,所述发光层上设置有若干发光区,所述发光区的激光光束透过出射层上的出射窗进行出射,所述第一反射器层包括光栅区,所述光栅区包括第一衍射区以及围绕所述第一衍射区设置的第二衍射区,所述出射窗与所述第一衍射区在所述出射层上的正投影存在部分重叠。

2.根据权利要求1所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,所述光栅区为周期性阵列排布的多个栅体,所述栅体包括沿阵列方向排布的一个栅条和一个栅槽,所述栅体的栅距等于一个栅体中栅条的宽度加栅槽的宽度,所述周期性阵列排布的栅体中,所述栅体的栅距均相等,位于激光器外部的背反射光源透过所述光栅区在所述出射层上产生明暗相间的衍射条纹。

3.根据权利要求1所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,所述出射层为氧化层,所述氧化层上设置有未氧化区以及围绕所述未氧化区设置的氧化区,所述未氧化区用于界定所述出射窗。

4.根据权利要求1所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,所述出射层为所述发光层,所述发光层上设置有未注入区和围绕所述未注入区设置的质子或离子注入区,所述未注入区域用于界定激光出射窗。

5.根据权利要求2所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,所述第一衍射区包括一个第一栅槽及与所述第一栅槽两侧相邻的两个第一栅条。

6.根据权利要求5所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,位于激光器外部的背反射光源透过所述光栅区在所述出射层上产生的暗纹与所述第一栅槽存在部分重叠,所述出射窗的位置对应暗纹所在区域。

7.根据权利要求5所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,位于激光器外部的背反射光源透过所述光栅区在所述出射层上产生的中央亮条纹与所述栅槽存在部分重叠,所述出射窗的边界位于相邻两所述中央亮条纹之间。

8.根据权利要求1所述的抗背反射高对比度激光器,其特征在于,还包括设置在所述发光层背离所述第一反射器层一侧的第二反射器层,所述第一反射器层在背离所述发光层的一侧设置有第一电极,所述第二反射器层在背离所述发光层的一侧设置有第二电极。

9.一种光纤耦合系统,其特征在于,包括如权利要求1-8任一所述的抗背反射高对比度激光器。

10.根据权利要求9所述的光纤耦合系统,其特征在于,还包括棱镜,所述棱镜被配置为接收出射窗射出的激光光束,并通过折射改变激光光束方向并耦合进后续光纤中。

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