[实用新型]一种光刻机及其掩膜结构

权利要求书

1.一种光刻机的掩膜结构，其特征在于，包括上模板(1)、下模板(2)、掩膜安装板(3)和掩膜板(4)；

所述掩膜安装板(3)为浮动板，且用于安装在所述上模板(1)上；

所述掩膜板用于安装在掩膜安装板(3)上，以随掩膜安装板(3)一起运动；

所述下模板(2)用于承载晶圆；

所述上模板(1)可相对下模板(2)升降，以带动掩膜板(4)相对靠近或远离所述晶圆。

2.根据权利要求1所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，还包括弹性件(5)，所述弹性件(5)用于提供所述掩膜安装板(3)相对靠近所述上模板(1)的力。

3.根据权利要求1或2所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，还包括限位结构(6)，所述限位结构(6)用于对掩膜安装板(3)的浮动高度进行限位。

4.根据权利要求3所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，

所述限位结构(6)的数量与所述掩膜安装板(3)的边角的数量相等，且一一对应，各限位结构(6)用于对相应掩膜安装板(3)的边角的浮动高度进行限位。

5.根据权利要求3所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，

所述限位结构(6)包括螺栓(61)和用于旋拧在螺栓(61)上的螺母(62)；

所述掩膜安装板(3)上设有过孔(31)，螺栓(61)的螺杆用于依次穿过上模板(1)和掩膜安装板(3)的过孔(31)，且使上模板(1)和掩膜安装板(3)位于螺栓(61)的头部与螺母(62)之间；其中，所述过孔(31)的孔径大于螺杆的外径，所述限位结构(6)通过螺栓(61)的头部或螺母(62)对掩膜安装板(3)进行止挡，以对其浮动高度进行限位。

6.根据权利要求5所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，

所述上模板(1)上设有用于容纳掩膜安装板(3)的安装孔(11)，所述安装孔(11)的内部具有用于对掩膜安装板(3)提供支撑的支撑台(12)；所述螺栓(61)用于穿过所述支撑台(12)，以通过支撑台(12)与上模板(1)连接。

7.根据权利要求6所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，

螺栓(61)的螺杆用于从下侧穿过支撑台(12)和掩膜安装板(3)，以使螺母(62)位于掩膜安装板(3)的上侧。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，

当所述光刻机的掩膜结构还包括弹性件(5)时，所述弹性件(5)用于套设在螺栓(61)的螺杆上、且位于掩膜安装板(3)的背离上模板(1)的一侧。

9.根据权利要求1、2、4至7中任一项所述的光刻机的掩膜结构，其特征在于，

所述掩膜板(4)用于吸附固定在掩膜安装板(3)上。

10.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1至9中任一项所述的掩膜结构。