[实用新型]清洁设备

说明书

本申请提出一种清洁设备，所述清洁设备包括第一除静电装置、超声波清洗装置、擦拭装置、第二除静电装置及干冰清洗装置，第一除静电装置用于提供第一离子风以去除所述工件的静电；超声波清洗装置用于利用超声波清洗经过所述第一除静电装置去除静电的所述工件；擦拭装置用于擦拭经过所述超声波清洗装置清洗的所述工件；第二除静电装置用于提供第二离子风以去除经过所述擦拭装置擦拭的所述工件的静电；干冰清洗装置用于利用干冰清洗经过所述第二除静电装置去除静电的所述工件。本申请通过将工件依次进行吹第一离子风、超声波清洗、擦拭、吹第二离子风及干冰清洗，清洁后的工件表面不会存有残留物，清洁精度稳定，能够满足高清洁度的要求。

技术领域

本申请涉及清洁技术领域，特别是一种清洁设备。

背景技术

现有技术在对诸如手机等电子产品的镜片，或其他对清洁度要求高的零部件进行清洁时，一般仅通过单一清洁装置，或安排人工擦拭的方式进行清洁。这种方式清洁效率低，不能满足较高的清洁度要求。

实用新型内容

鉴于上述状况，有必要提供一种清洁设备，以解决上述问题。

本申请提出了一种清洁设备，用于清洁工件，包括：

第一除静电装置，用于去除所述工件的静电；

超声波清洗装置，用于利用超声波清洗经过所述第一除静电装置去除静电后的所述工件；

擦拭装置，用于擦拭经过所述超声波清洗装置清洗后的所述工件；

第二除静电装置，用于去除经过所述擦拭装置擦拭后的所述工件的静电；

干冰清洗装置，用于利用干冰清洗经过所述第二除静电装置去除静电后的所述工件；及

搬运装置，用于承载所述工件及带动所述工件依次经过所述第一除静电装置、所述超声波清洗装置、所述擦拭装置、所述第二除静电装置和所述干冰清洗装置以清洁所述工件。

上述的清洁设备中，通过将工件依次进行除静电处理、超声波清洗处理、擦拭处理、再次除静电处理及干冰清洗处理，清洁后的工件表面不会存有残留物，清洁精度稳定，能够满足高清洁度的要求。

附图说明

图1为本申请实施例的零组件的示意图。

图2为本申请实施例的镜头安装后凹陷结构的示意图。

图3是本申请实施例提供的清洁设备的立体结构示意图。

图4是图3中提出的清洁设备中第一检测装置的立体结构示意图。

图5是图3中提出的清洁设备中第一除静电装置的立体结构示意图。

图6是图3中提出的超声波装置中第一除静电装置的立体结构示意图。

图7是图3中提出的清洁设备中擦拭装置的立体结构示意图。

图8是图7中的承载台承载零组件进行镜头擦拭的示意图。

图9是图7中的擦拭头的示意图。

图10是图3中提出的清洁设备中干冰清洗装置的立体结构示意图。

图11是图3中提出的清洁设备中转盘和上料装置的立体结构示意图。

图12是图11的上料装置中机械手的立体结构示意图。

图13是本申请提出的一种清洁方法的流程图。

图14是图13中的在提供第一离子风之前进行镜头表面的杂质检测流程图。

图15是本申请提出的又一种清洁方法的流程图。

图16是本申请提出的另一种清洁方法的流程图。