[实用新型]一种蒸镀装置

说明书

本实用新型公开一种蒸镀装置，包括一真空腔室，所述真空腔室内具有若干个相互独立的工位，所述工位上转动连接有多个蒸发源，所述蒸发源包括可加热的容器和对容器进行加热的电加热器，所述工位上还具有供电件，所述供电件包括第一导电部和第二导电部，所述第一导电部和第二导电部分别与外部供电源电性连接，所述电加热器具有与供电件保持滑动接触和电性连接的连接部，以使同一工位上多个蒸发源转动时，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第一导电部保持滑动式电性连接，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第二导电部保持滑动式电性连接。本装置结构简单，能够实现连续镀膜。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀设备领域，尤其是涉及一种蒸镀装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示（TFT-LCD）已成为显示市场主流，新一代显示技术有源有机发光显示（AMOLED）开始产业化、AMOLED柔性显示等新型显示技术也在朝着产业化方向迈进。从彩色显像管（CRT）到TFT-LCD是技术的中断和更替；从TFT-LCD到AMOLED是技术的延伸和发展。TFT-LCD、AMOLED等新型显示技术，它们的基础技术都是半导体技术，都可统称为半导体显示，通常的显像管在生产过程中，其需要对晶体进行蒸镀，通常使用蒸镀设备对其进行镀膜，传统的蒸镀设备仍存在各种各样的问题，难以满足实际使用需求。

如授权公告号为CN205774776U的实用新型所公开的一种多蒸发源镀膜装置，在所述真空镀膜室内设置有多个膜厚控制仪，其中一个所述膜厚控制仪设置在所述工件伞架的中心位置用于监控所述镀膜基片上的镀膜速率，其余的所述膜厚控制仪与所述蒸发源构成一一对应以分别监控和调节每个所述蒸发源的蒸发速率，其无法对蒸发源进行自动旋转，不便于进行快速镀膜，镀膜效率不高，为此我们提出一种蒸镀用蒸发源装置。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种具有多个工位和多个蒸发源，能够保证镀膜持续性，提高镀膜效率的蒸镀装置。

为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种蒸镀装置，包括一真空腔室，所述真空腔室内具有若干个相互独立的工位，所述工位上转动连接有多个蒸发源，所述蒸发源包括可加热的容器和对容器进行加热的电加热器，所述工位上还具有供电件，所述供电件包括第一导电部和第二导电部，所述第一导电部和第二导电部分别与外部供电源电性连接，所述电加热器具有与供电件保持滑动接触和电性连接的连接部，以使同一工位上多个蒸发源转动时，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第一导电部保持滑动式电性连接，有且仅有一个蒸发源的电加热器的连接部与第二导电部保持滑动式电性连接。

进一步的，所述供电件还包括一绝缘部，同一工位上多个蒸发源转动时，至少有一个蒸发源的电加热器的连接部与绝缘部保持滑动连接。

进一步的，同一工位上的供电件的数量为两个，分别用于连接外部电源的正负极，第一导电部、第二导电部和绝缘部呈环形布置，同一工位上所有连接部沿第一导电部、第二导电部和绝缘部所构成的环形转动。

进一步的，所述第一导电部和第二导电部之间具有绝缘段，以使连接部跨越第一导电部和第二导电部时，至少其中两个不产生电性连接。

进一步的，所述连接部为环形或呈凹字形。

进一步的，所述工位上具有驱使该工位上所有蒸发源同步转动的驱动机构。

进一步的，所述真空腔室内具有膜厚检测器。

进一步的，所述真空腔室内顶部具有对位装置，所述对位正在包括可升降的基板支架和掩膜版支架，所述基板支架上放置有基板，所述掩膜版支架上放置有掩膜版。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：本装置具有多个工位，工位上具有可转动的多个蒸发源，能够实现连续蒸镀，结构简单，使用方便。

为让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

附图说明