[实用新型]一种光刻机大理石平台

说明书

本实用新型公开了一种光刻机大理石平台，属于光刻机技术领域。包括：基础组件和运动组件；其中，基础组件包括采用大理石材料制成基座，设置在所述所基座上方、采用大理石材料制成的横梁；运动组件为三坐标运动机构，包括水平设置在所述基座上的X轴直线运动模组，水平设置在所述横梁上的Y轴直线运动模组，以及设置在所述Y轴直线运动输出端的Z轴直线运动模组。本实用新型通过采用大理石材料作为基座和横梁，减小了温度对平台的平整度和连接契合度的影响，进而提高平台的运动精度。

技术领域

本实用新型属于光刻机技术领域，尤其是一种光刻机大理石平台。

背景技术

微米级无掩膜光刻机是半导体及PCB生产领域中一个重要设备，有别于传统半自动曝光设备，本公司设计的微米级无掩膜光刻机是利用数字光源取代传统光刻机的掩模板，从而可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆或PCB板上，再经过定型、显影等工艺，最终在晶片上复制出图形和图案。对于大体积的晶圆或PCB板，需要采用分区域的曝光，因此，需要曝光头配合平台的运动，实现对晶圆或PCB板的曝光、光刻。

现有的平台一般采用金属材料或高分子合成材料作为平台的支持机构，但是金属材料或高分子合成材料的受温度的影响相对较大，会出现较为明显的热胀冷缩作用，导致基座表面出现不平整、连接公差变大等现象。因此，需要对支持机构做出进一步改进，以提高平台的运动精度。

实用新型内容

为了克服上述技术缺陷，本实用新型提供一种光刻机大理石平台，以解决背景技术所涉及的问题。

本实用新型提供一种光刻机大理石平台，包括：基础组件和运动组件两部分。

基础组件包括采用大理石材料制成基座，设置在所述所基座上方、采用大理石材料制成的横梁；

运动组件为三坐标运动机构，包括水平设置在所述基座上的X轴直线运动模组，水平设置在所述横梁上的Y轴直线运动模组，以及设置在所述Y轴直线运动输出端的Z轴直线运动模组。

优选地或可选地，所述X轴直线运动模组和Y轴直线运动模组均采用双导轨直线运动模组。

优选地或可选地，所述双导轨直线运动模组包括：设置在所述基座或横梁上的两侧的两个直线导轨，分别套装在所述直线导轨上的两个直线滑块，安装在所述直线滑块上的安装台，以及安装在所述安装台上的定位装置或三角形安装架。

优选地或可选地，所述安装台的外部设置有拖链；所述拖链上至少包括有与直线滑块相连接的控制线路和供电线路。

优选地或可选地，所述直线导轨与直线滑块之间的公差等级小于或等于9级。

优选地或可选地，所述基座与横梁之间通过大理石制成的立柱连接安装。

优选地或可选地，所述X轴直线运动模组、Y轴直线运动模组和Z轴直线运动模组上均安装有原点标识物。

优选地或可选地，所述Z轴直线运动模组包括：与所述三角形安装架相连接的安装罩，设置在所述安装罩顶部的伺服电机，与所述伺服电机相连接的滚珠丝杆，安装在所述安装罩内、位于所述滚珠丝杆两侧的滑动导轨，套装在所述滚珠丝杆和滑动导轨上的滑动块，以及固定安装在所述滑动块上的输出设备。

优选地或可选地，所述输出设备为光刻机用曝光头。

有益效果：本实用新型涉及一种光刻机大理石平台，通过采用大理石材料作为基座和横梁，减小了温度对平台的平整度和连接契合度的影响，进而提高平台的运动精度；通过将X轴直线运动模组和Y轴直线运动模组均设计为双导轨直线运动模组，具有更高的运动精度，提高了对曝光头对晶圆、PCB板的位置的曝光精度；通过在X轴直线运动模组、Y轴直线运动模组和Z轴直线运动模组上安装有原点标识物，方便每次曝光完成后，对平台进行归零，运动避免误差的累积。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。