[实用新型]一种刷头组件和抛光垫刷洗装置有效
申请号: | 202121666256.8 | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN215964966U | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
发明(设计)人: | 朱亮;沈文杰;黄金涛;谢龙辉;郑猛;潘兴兴 | 申请(专利权)人: | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
主分类号: | B08B1/00 | 分类号: | B08B1/00;B08B1/04;B24B37/34 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 周世骏 |
地址: | 312300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 组件 抛光 刷洗 装置 | ||
本实用新型涉及刷洗机构领域,尤其是涉及一种刷头组件和抛光垫刷洗装置,包括:固定座;刷头本体,刷头本体活动连接于固定座,刷头本体可在第一方向上活动;以及调节组件,调节组件包括:第一弹性件,第一弹性件可形变,第一弹性件设置于固定座上,第一弹性件的一端与刷头本体相抵触,以减弱刷头本体在第一方向上的活动;限位件,限位件可调式连接于固定座上,限位件与第一弹性件的另一端相抵触。本申请具有的效果:通过在刷头本体和固定座之间设置了第一弹性件,弹性件削弱刷头本体的运动,解决了现有技术中刷头对抛光垫的清洁效果不佳的技术问题;达到提高刷头对抛光垫的清洁效果的技术效果。
技术领域
本申请涉及刷洗机构领域,尤其是涉及一种刷头组件。
背景技术
硅片研磨抛光,主要是利用抛光头下方的硅片与抛光盘上的抛光垫间的摩擦实现硅片表面去除材质的目的;硅片研磨抛光中,抛光盘上的抛光垫长期接触抛光液,抛光液易结晶而留在抛光垫上,同时硅片加工后,抛光盘上的抛光垫会有少量的磨损,盘面抛光垫会高低不平,因此需要对抛光垫进行刷洗清洁。
现有技术中,利用通过刷头对抛光垫进行刷洗,刷头一般是通过机械臂等数控机构进行控制方向和力度,但由于在刷洗过程中缠身的震动造成刷头对抛光垫的作用力不稳定,或由于机械臂控制精度不高,在控制刷头移动过程中存在偏差也会造成刷头对抛光垫作用力不稳定的问题,从而导致抛光垫刷洗效果不佳。
因此,现有技术的技术问题在于:刷头对抛光垫的清洁效果不佳。
实用新型内容
本申请提供一种刷头组件,解决了现有技术中刷头对抛光垫的清洁效果不佳的技术问题;达到提高刷头对抛光垫的清洁效果的技术效果。
本申请提供的一种刷头组件,采用如下的技术方案:
一种刷头组件,包括:固定座;刷头本体,所述刷头本体活动连接于固定座,所述刷头本体可在第一方向上活动;以及调节组件,所述调节组件包括:第一弹性件,所述第一弹性件可形变,所述第一弹性件设置于所述固定座上,所述第一弹性件的一端与所述刷头本体相抵触,以减弱所述刷头本体在第一方向上的活动;限位件,所述限位件可调式连接于所述固定座上,所述限位件与所述第一弹性件的另一端相抵触。
作为优选,所述固定座与所述刷头本体之间设置有限位组件,所述限位组件包括:第一限位板,所述第一限位板固定于所述固定座上;第二限位板,所述第二限位板固定于所述刷头本体上,所述第二限位板可与所述第一限位板相抵触,使得所述固定座的活动范围被限定。
作为优选,所述固定座上开设有第一通道,所述第一通道贯穿至所述固定座靠近所述刷头本体的一端,所述第一弹性件设置于所述第一通道内。
作为优选,所述第一通道内滑移连接有推板,所述推板的两个端面分别与所述限位件、所述第一弹性件相抵触。
作为优选,所述固定座与所述刷头本体之间设置有支撑板,所述支撑板的两个端面分别与所述固定座、所述刷头本体相抵触。
作为优选,所述固定座包括:第一座,所述第一座与所述刷头本体活动连接,第一座中开设所述第一通道;第二座,所述第二座转动连接于所述第一座远离所述刷头本体的一端,使得第二座可绕轴自转,所述第二座上可调式连接所述限位件。
作为优选,所述第二座上连接有同步轮,所述同步轮与所述第一座定位固定连接。
作为优选,所述第一座上设置有:第二通道,所述第二通道贯穿至靠近所述刷头本体的一端;第二弹性件,所述第二弹性件设置于所述第二通道内,所述第二弹性件与支撑板相抵触。
作为优选,所述第一弹性件和第二弹性件具体为弹簧;所述限位件具体为螺钉,所述螺钉通过螺纹连接于所述第二座上。
一种抛光垫刷洗装置,包括所述刷头组件。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
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