[实用新型]一种气流染色机的染液过滤结构有效

专利信息
申请号: 202121697695.5 申请日: 2021-07-23
公开(公告)号: CN215289311U 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 沈小华;任鑫泉;杜建刚 申请(专利权)人: 浙江新三印印染有限公司
主分类号: D06B23/20 分类号: D06B23/20;D06B23/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 312030 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 气流 染色 染液 过滤 结构
【权利要求书】:

1.一种气流染色机的染液过滤结构,包括染色机本体(1),其特征在于:位于所述染色机本体(1)一侧地面上设置有过滤装置(2),所述过滤装置(2)包括;

过滤箱(21),所述过滤箱(21)放置在地面上且设置有与染色机本体(1)连接的出液管(24);

回流泵(22),所述回流泵(22)设置在过滤箱(21)上且与过滤箱(21)连通;

回流管(23),所述回流管(23)设置在回流泵(22)上且与染色机本体(1)连接;

去除机构(3),所述去除机构(3)设置在过滤箱(21)上且与用于对染液进行去除。

2.根据权利要求1所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述去除机构(3)包括;

沉淀板(31),所述沉淀板(31)设置在过滤箱(21)上且接出液管(24)流出的染液并对染液中的杂质进行沉淀;

过滤板(32),所述过滤板(32)设置在过滤箱(21)上且接住沉淀板(31)上的染液并对染液进行过滤。

3.根据权利要求2所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述过滤箱(21)上设置有对沉淀板(31)和过滤板(32)进行清理的清理装置(4),所述清理装置(4)包括;

第一清理板(41)和第二清理板(42),所述第一清理板(41)和第二清理板(42)均滑移设置在过滤箱(21)上且分别与沉淀板(31)和过滤板(32)的上表面抵触;

驱动机构(43),所述驱动机构(43)设置在过滤箱(21)上且用于驱动第一清理板(41)和第二清理板(42)移动;

收集机构(5),所述收集机构(5)设置在过滤箱(21)上且用于收集沉淀板(31)和过滤板(32)上的杂质。

4.根据权利要求3所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述驱动机构(43)包括;

驱动气缸(44),所述驱动气缸(44)设置在过滤箱(21)上;

连接板(45),所述连接板(45)设置在驱动气缸(44)活塞杆上且与第一清理板(41)和第二清理板(42)连接。

5.根据权利要求3所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述收集机构(5)包括;

收集箱(51),所述收集箱(51)设置在过滤箱(21)上且开设有滑移孔(511);

收集盒(52),所述收集盒(52)滑移设置在滑移孔(511)上且用于收集杂质;

收集板(53),所述收集板(53)设置在收集盒(52)上且抵触在收集箱(51)上,

定位组件(54),所述定位组件(54)设置在收集箱(51)上且用于对收集板(53)进行定位。

6.根据权利要求5所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述定位组件(54)包括;

定位块(55),所述定位块(55)设置在过滤箱(21)上;

定位杆(56),所述定位杆(56)转动设置在收集板(53)上且与定位块(55)卡接配合。

7.根据权利要求5所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述沉淀板(31)上均布开设有多个用于沉淀杂质的沉淀槽(33),所述收集盒(52)上均布开设有多个供染液通过的过水孔。

8.根据权利要求1所述的一种气流染色机的染液过滤结构,其特征在于:所述过滤箱(21)内侧壁上设置有保温层。

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