[实用新型]具有下吹管线的粉末原子层沉积机台有效
申请号: | 202121706064.5 | 申请日: | 2021-07-26 |
公开(公告)号: | CN217230929U | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 林俊成;张容华;古家诚 | 申请(专利权)人: | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 管线 粉末 原子 沉积 机台 | ||
1.一种具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,包括:
一驱动单元;
一轴封装置,连接该驱动单元;
一真空腔体,连接该轴封装置,该驱动单元通过该轴封装置带动该真空腔体转动,该真空腔体包括:
一盖板及一腔体,该盖板的一内表面覆盖该腔体以在两者之间形成一反应空间,并于该盖板的该内表面设置一监控晶圆,其中该反应空间用以容置复数颗粉末,该粉末受到重力作用沉积在该反应空间的一底部;及
一下吹管线,连接该反应空间,并朝向该反应空间的该底部;
至少一抽气管线,位于该轴封装置内,流体连接该真空腔体的该反应空间,并用以抽出该反应空间内的一气体;
至少一进气管线,位于轴封装置内,流体连接该真空腔体的该反应空间,并用以将一前驱物气体输送至该反应空间;及
至少一非反应气体输送管线,位于该轴封装置内,并用以连接该真空腔体的该下吹管线,其中该非反应气体输送管线用以将一非反应气体经由该下吹管线输送至该反应空间,以吹向该反应空间的该底部。
2.根据权利要求1所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,其中该轴封装置包括一外管体及一内管体,该外管体包括一容置空间用以容置该内管体,而该内管体则包括至少一连接空间用以容置该抽气管线、该进气管线及该非反应气体输送管线。
3.根据权利要求2所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,其中该非反应气体输送管线包括一分枝部,该分枝部贯穿该内管体,并用以连接该下吹管线。
4.根据权利要求2所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,其中该真空腔体或该内管体包括一转接空间,该非反应气体输送管线经由该转接空间连接该下吹管线,该转接空间的一截面积大于该非反应气体输送管线及该下吹管线。
5.根据权利要求4所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,其中该转接空间为一环状体,环绕在该内管体的周围。
6.根据权利要求2所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,包括一第一密封环位于该内管体与该真空腔体之间。
7.根据权利要求6所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,包括一第二密封环位于该外管体与该真空腔体之间,其中该非反应气体输送管线与该下吹管线的连接位置位于该第一密封环与该第二密封环之间。
8.根据权利要求1所述的具有下吹管线的粉末原子层沉积机台,其特征在于,包括一延伸管体连接该进气管线,该延伸管体位于该真空腔体的该反应空间内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的