[实用新型]陶瓷平板膜涂膜装置

说明书

本实用新型涉及一种陶瓷平板膜，尤其涉及一种陶瓷平板膜涂膜装置。本实用新型通过表面抛光机、物化处理槽，膜液槽以及Uv固化机对陶瓷平板膜依次进行抛光、弱性侵蚀处理、膜液分散及涂膜、定型，保证膜层的完整，提高涂膜质量。本实用新型所述的陶瓷平板膜涂膜装置包括依次设置的表面抛光机，物化处理槽，膜液槽以及Uv固化机，所述物化处理槽和膜液槽上均设置超声波清洗器。

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷平板膜，尤其涉及一种陶瓷平板膜涂膜装置。

背景技术

目前市场上陶瓷平板膜的各个生产厂家或研究机构，其涂膜的方法无非有两种：一种是采用静电喷涂的方式，将膜液雾化后，自动喷雾到载体表面。另一种是采用普通浸没式，靠陶瓷平板膜的自然吸力，进行吸浆涂膜的方式。两种涂膜的膜液的基质材料也基本采用纤维素类的水基悬浮液，悬浮性能一般。以上的涂膜工艺，基本都存在一些缺陷，比如，膜液本身的分散性较差，悬浮性随着深度的梯度变化问题；载体表面膜层厚度差别较大的问题；膜层很难完全覆盖载体，造成载体表面零星裸露的问题；膜层表面崎岖不平，容易存污的问题；膜层整体致密度的梯度变化，造成膜质量的不一致，造成过滤通量的损失等。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于提出一种陶瓷平板膜涂膜装置，通过表面抛光机、物化处理槽，膜液槽以及Uv固化机对陶瓷平板膜依次进行抛光、弱性侵蚀处理、膜液分散及涂膜、定型，保证膜层的完整，提高涂膜质量。

本实用新型所述的陶瓷平板膜涂膜装置包括依次设置的表面抛光机，物化处理槽，膜液槽以及Uv固化机，所述物化处理槽和膜液槽上均设置超声波清洗器。

表面抛光机用于对陶瓷平板膜表面进行细致抛光，物化处理槽用于对陶瓷平板膜表面进行侵蚀处理，陶瓷平板膜需浸入物化处理槽内10-20s，并通过超声波清洗器进行超声清洗。膜液槽内基液可采用高粘度、强分散性、易挥发性、易成膜的pvb复合胶体，或Uv复合胶体，膜原料颗粒采用常见的油墨剪切机进行机械分散。具体的，物化处理过的陶瓷平板膜，风干后，可采用水平浸没式的方法对陶瓷平板膜进行涂膜操作，涂膜过程中不停进行超声波分散，以防无机颗粒沉降或者团聚，涂膜时间20-40s。Uv固化机用于陶瓷平板膜的快速干燥和定型，以保证膜层的完整。

优选的，所述表面抛光机的磨盘采用800-1000目的金刚石软磨盘。

优选的，所述表面抛光机上设有粉尘收集罩。

粉尘收集罩用于收集表面抛光机抛光时产生的粉尘。

优选的，所述表面抛光机依次设置两台。

两台表面抛光机可用于陶瓷平板膜正、反两面的抛光，陶瓷平板膜两面抛光后可进行后续工序。

优选的，还包括设置于Uv固化机后端的高温辊道窑。

经Uv固化机定型后的陶瓷平板膜高温辊道窑中进行1100-1300度瓷化烧成，最终成为优质的陶瓷平板膜产品。

本实用新型的有益效果是：本实用新型大幅度提高陶瓷平板膜表面覆膜质量的均一性，膜液分散性极高，超声分散也能有效解决实际生产过程中所产生的颗粒分散密度的梯度变化问题，和无机颗粒的沉降问题。极大的改善了因为工艺和载体表面质量差异造成的膜层厚度和密度的差别，从而造成的使用过程压力差导致的通量损失。该装置提高了劳动效率和产能的同时，大大降低了生产成本。

附图说明

图1是一种实施例结构示意图；

图中：1、表面抛光机；2、物化处理槽；3、膜液槽；4、Uv固化机；5、超声波清洗器；6、磨盘；7、粉尘收集罩；8、高温辊道窑；9、陶瓷平板膜。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。