[实用新型]一种直写式光刻机的光学系统有效
申请号: | 202121767959.X | 申请日: | 2021-07-31 |
公开(公告)号: | CN216351771U | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 张柯;魏帅;董昱君;张雷 | 申请(专利权)人: | 源能智创(江苏)半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
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地址: | 215399 江苏省苏州市昆山市玉*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 直写式 光刻 光学系统 | ||
1.一种直写式光刻机的光学系统,包括多个相同的光学子系统,其特征在于,每个光学子系统包括:
照明模块,配置为产生光刻所需的照明光束;
空间光调制模块,配置为对照明光束进行调制以形成图形光;
第一双远心成像模块,配置为对所述空间光调制模块产生的图形光进行成像,以形成像面光斑;
微透镜阵列模块,配置为将所述第一双远心成像模块形成的像面光斑聚焦成为光斑阵列;
第二双远心成像模块,配置为将光斑阵列再次成像并投射到基板上;
调焦模块,包括可相对移动的上直角楔形棱镜和下直角楔形棱镜,配置为调节所述光学子系统的焦面。
2.如权利要求1所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述照明模块包括光源组件和光束整形组件,所述光源组件可以产生单一波长或混合波长的光束,所述光束整形组件用于对光源产生的光束进行匀光处理以及束面整形。
3.如权利要求1所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述空间光调制模块为数字微镜器件,包括可控翻转的数字微镜阵列,所述数字微镜阵列的成像面与所述第一双远心成像模块的物面重合。
4.如权利要求3所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述微透镜阵列由多个阵列排布的微透镜组成,所述微透镜阵列位于所述第一双远心成像模块的成像面位置。
5.如权利要求4所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述每个微透镜的中心与所述数字微镜器件的像素点的中心位置相对应,所述每个微透镜的直径等于所述数字微镜器件单个像素点的尺寸与所述第一双远心成像模块的放大倍率的乘积。
6.如权利要求1所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述上直角楔形棱镜和所述下直角楔形棱镜的斜面相对设置,斜面之间的间隙距离在0.05mm-0.5mm范围内。
7.如权利要求6所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述上直角楔形棱镜和/或所述下直角楔形棱镜通过驱动装置带动其沿斜面所在的平面进行平移。
8.如权利要求1所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述多个光学子系统配置为多行相互交错的排列方式。
9.如权利要求1所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述多个光学子系统配置为单行排列的方式。
10.如权利要求1所述的直写式光刻机的光学系统,其特征在于,所述每个光学子系统还包括分光模块,所述分光模块具有至少两组相对基板成像面倾斜方向相反的光学元件,每组光学元件在X和Y方向都有倾斜角,配置为将从调焦模块出射的光束分为两部分投射到基板上。
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