[实用新型]一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置有效
| 申请号： | 202121773215.9 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN215894167U | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 郝昕;甘林;胡世鹏;孙慧斌;赵海歌;罗奇;钟健;吴正新 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32;C30B33/10 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 于建 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 浸蚀 腐蚀 装置 | ||
1.一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，包括若干层由上至下依次平行排列的放置台，所述放置台可用于放置片状的晶体，所述放置台的中间设有贯通的第一流通孔，所述第一流通孔用于供腐蚀液流通并腐蚀晶体表面的位错。
2.根据权利要求1所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，若干所述放置台由上至下尺寸依次减小，并依次呈阶梯状排列连接，所述放置台由上至下可依次放置不同尺寸的晶体。
3.根据权利要求1所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述放置台为圆形，所述放置台上沿竖直方向开设有用于取放晶体或供腐蚀液流入的豁口。
4.根据权利要求3所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述豁口为扇形结构。
5.根据权利要求3所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述放置台的内径为20-80mm。
6.根据权利要求3所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述放置台为环形结构，所述放置台的宽度为3-8mm。
7.根据权利要求4所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，相邻放置台之间的高度差为1-5mm。
8.根据权利要求3所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述放置台上设有若干第二流通孔，所述第二流通孔用于供腐蚀液流通腐蚀晶体周缘的下表面的位错。
9.根据权利要求3所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述放置台的下端连接有支撑柱。
10.根据权利要求3所述的用于浸蚀法的位错腐蚀装置，其特征在于，所述放置台的上端连接有取放柱。
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