[实用新型]一种煎烤机有效

专利信息
申请号: 202121789773.4 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN216020571U 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 朱泽春;万军;汪东升 申请(专利权)人: 九阳股份有限公司
主分类号: A47J37/06 分类号: A47J37/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250117 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 煎烤机
【说明书】:

实用新型涉及一种煎烤机。现有煎烤机的可烹饪食材量较少,影响使用体验。本实用新型包括底座、罩壳以及烤盘组件,烤盘组件包括下置烤盘和上置烤盘,上置烤盘和下置烤盘围合形成下置烹饪腔,罩壳的顶面中部设有开口,上置烤盘的顶面中部形成上置烹饪腔,烤盘组件上设有储水槽,上置烹饪腔和下置烹饪腔间设有输气通道,储水槽内水源受热形成的蒸汽被分流至上置烹饪腔和下置烹饪腔内。在烤盘组件上置烹饪腔和储水槽,储水槽内水源受热形成可同时输入上置烹饪腔和下置烹饪腔的蒸汽,既有效增加单次可烹饪食材量,还能利用储水槽为食材补充水分,提升食材口感。

技术领域

本实用新型涉及食品加工领域,具体涉及一种煎烤机。

背景技术

现有煎烤机,包括底座、可盖合在底座上的罩壳以及设置在底座和罩壳间的烤盘组件,所述烤盘组件包括设置在底座顶面的下置烤盘以及设置在罩壳底面的上置烤盘,上置烤盘盖合在下置烤盘上并围合形成下置烹饪腔,在使用时,煎烤机只能通过下置烹饪腔进行烹饪煎烤,导致单次可烹饪的食材数量较少,影响烹饪效率,此外,储水槽设置在下置烹饪腔内,占用了食材加工空间,影响使用体验。

实用新型内容

为了解决现有技术的不足,本实用新型提供一种煎烤机,通过在上置烤盘上方设置上置烹饪腔和储水槽,既能增加单次可烹饪食材量,提升使用体验,还利用储水槽为上置烹饪腔和下置烹饪腔内食材同时补充水分,提升食材口感。

本实用新型通过以下方式实现:一种煎烤机,包括底座、可盖合在底座上的罩壳以及设置在底座和罩壳间的烤盘组件,所述烤盘组件包括设置在底座顶面的下置烤盘以及设置在罩壳底面的上置烤盘,上置烤盘盖合在下置烤盘上并围合形成下置烹饪腔,所述罩壳的顶面中部设有带盖体的开口,所述上置烤盘的顶面中部通过开口敞露并形成上置烹饪腔,所述烤盘组件上设有储水槽,所述上置烹饪腔和下置烹饪腔间设有输气通道,储水槽内水源受热形成的蒸汽被分流至上置烹饪腔和下置烹饪腔内。在烤盘组件上置烹饪腔和储水槽,储水槽内水源受热形成可同时输入上置烹饪腔和下置烹饪腔的蒸汽,既有效增大下置烹饪腔的空间,能增加单次可烹饪食材量,提升使用体验,还能利用储水槽为食材补充水分,提升食材口感。上置烹饪腔和下置烹饪腔间通过输气通道通连,使得上置烹饪腔和下置烹饪腔可同时接收来自储水槽的蒸汽。

作为优选,所述上置烤盘上设有竖向贯通的输气通道,以使上置烹饪腔和下置烹饪腔互为通连。输气通道的上端口与上置烹饪腔通连,下端口与下置烹饪腔通连,使得上置烹饪腔和下置烹饪腔可同时获得蒸汽,进而确保食材口感。

作为优选,所述上置烤盘的顶面周缘向上延伸形成环状的储水槽,所述储水槽产生的蒸汽通过朝上设置的槽口向外扩散。储水槽设置在上置烤盘的顶面周缘,既能有效吸收位于上置烤盘周缘的热量,防止热量向外扩散,还不会影响上置烤盘中部的烹饪效率。

作为优选,所述储水槽内缘与上置烹饪腔外缘间设有环状的蒸汽输送腔,所述输气通道开设在所述蒸汽输送腔的底壁上。蒸汽输送腔的顶部与储水槽的槽口以及上置烹饪腔的腔口通连,使得蒸汽输送腔能接收来自储水槽的蒸汽并通过输气通道输送至下置烹饪腔内,而上置烹饪腔通过腔口直接接收来自储水槽的蒸汽,确保食材水分含量保持均衡。

作为优选,所述盖体的竖向投影完整覆盖所述开口,盖合到位后,所述储水槽、蒸汽输送腔、上置烹饪腔以及下置烹饪腔互为通连且与外界空间隔绝。盖体用于密封封堵开口,确保蒸汽能同时顺利输送至上置烹饪腔和下置烹饪腔。

作为优选,所述盖体呈环状且竖向投影完整覆盖所述储水槽和蒸汽输送腔,盖合到位后,所述储水槽、蒸汽输送腔以及下置烹饪腔互为通连且与外界空间隔绝,所述上置烹饪腔敞露于罩壳顶面。储水槽的槽口和蒸汽输送腔的腔口被盖体密封盖合,使得储水槽、蒸汽输送腔以及下置烹饪腔互为通连,上置烹饪腔通过腔口敞露,不会接收来自储水槽的蒸汽,通过改变盖体形状来调整上置烹饪腔和下置烹饪腔接收蒸汽的状态,进而实现多样化的烹饪方式。

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