[实用新型]X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架

权利要求书

1.一种X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架，其特征是，

包括防溅顶盖（1）、滤线栅放置平台（3）和连接防溅顶盖（1）与滤线栅放置平台（3）的中心棒（2）组成，防溅顶盖（1）中间开孔固定所述的中心棒（2），中心棒（2）的底部设置所述的滤线栅放置平台（3），滤线栅放置平台（3）的一周设有多个滤线栅放置槽（4），X射线滤线栅放置在滤线栅放置槽（4）中，将滤线栅放置平台（3）及X射线滤线栅放置在酸蚀溶液中，防溅顶盖（1）封堵放置酸蚀溶液的容器上部口。

2.根据权利要求1所述的X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架，其特征是，防溅顶盖（1）的下侧面设有向下的连接杆（5），连接杆（5）的底部设置温度传感器支架（6），温度传感器支架（6）上固定温度传感器与磁力搅拌器相连。

3.根据权利要求1所述的X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架，其特征是，滤线栅放置平台（3）的底部设有三组支撑杆（7），三组支撑杆（7）均匀布置在放置滤线栅的平台的下部，两两之间角度相距120度，所述支撑杆（7）将每片X射线滤线栅脱离容器底部。

4.根据权利要求1所述的X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架，其特征是，所述滤线栅放置槽（4）包括从滤线栅放置平台（3）上侧面向下的矩形槽（42）和处于矩形槽（42）两侧的通槽（41）组成，通槽（41）为处于滤线栅放置平台（3）边缘且贯通滤线栅放置平台（3）的上下侧面，矩形槽（42）处于通槽（41）的两向对内周面上。

5.根据权利要求4所述的X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架，其特征是，所述矩形槽（42）圆周外侧倾斜α度。

6.根据权利要求2所述的X射线滤线栅采用酸蚀清洗时使用的放置支架，其特征是，防溅顶盖（1）在温度传感器支架（6）上方位置设有圆孔（8），防溅顶盖（1）尺寸大于放置酸蚀溶液的容器上部口，且一周边缘向下伸出。