[实用新型]一种研磨充分的化工原料研磨装置有效
申请号: | 202121835593.5 | 申请日: | 2021-08-07 |
公开(公告)号: | CN215694451U | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 田泰铭 | 申请(专利权)人: | 成都中科汇川科技有限公司 |
主分类号: | B02C13/18 | 分类号: | B02C13/18;B02C13/282;B02C13/30;B02C13/26;B08B7/02;B08B9/08 |
代理公司: | 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 | 代理人: | 王霞 |
地址: | 610000 四川省成都市温江区柳*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 充分 化工原料 装置 | ||
本实用新型公开了一种研磨充分的化工原料研磨装置,包括底板,底板的外壁固定连接有伸缩架,伸缩架的外壁固定接有伺服电机,伸缩架的外壁固定连接有减速器,减速器的内壁与伺服电机的输出端固定连接,减速器的内壁转动连接有圆棒,底板的顶部设有圆杆,圆杆的外壁转动连接有定位板,定位板的底部与底板的外壁固定连接,圆杆的外壁固定套有矩形块,矩形块的外壁活动连接有基台,基台的外壁固定连接有圆筒。通过设置圆杆等结构,避免一般的研磨装置对于原料研磨的不够充分,尤其是靠近容易内壁的原料不易被研磨到,从而降低了工作效率。
技术领域
本实用新型属于研磨技术领域,具体涉及一种研磨充分的化工原料研磨装置。
背景技术
研磨是一种常见的处理原材的加工手段,一般是将材料置于一个较小的容器内,接着使用专门的研具去挤压材料的表面,而研磨方法一般可分为湿研、干研和半干研3类,而在化工领域内,经常需要使用研磨装置对各种原料进行研磨。
然而传统的装置在使用时还存在以下问题:
1、由于一般的研磨装置都是将原料直接放在一个容器内,然后用研具一直搅拌原料,使得研具不断挤压原料的表面,以此来将原料打碎成更小的颗粒,但是一般的研磨装置对于原料研磨的不够充分,尤其是靠近容易内壁的原料不易被研磨到,从而降低了工作效率。
2、由于研磨完后需要对容器进行清洁,一般是使用人员手持刷具反复地刷容器的内壁,有时原料结成块黏在容器的表面,较难刷掉,增加了人的工作量。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种研磨充分的化工原料研磨装置,具备让研磨更充分的优点。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种研磨充分的化工原料研磨装置,包括底板,所述底板的外壁固定连接有伸缩架,所述伸缩架的外壁固定接有伺服电机,所述伸缩架的外壁固定连接有减速器,所述减速器的内壁与伺服电机的输出端固定连接,所述减速器的内壁转动连接有圆棒,所述底板的顶部设有圆杆,所述圆杆的外壁转动连接有定位板,所述定位板的底部与底板的外壁固定连接,所述圆杆的外壁固定套有矩形块,所述矩形块的外壁活动连接有基台,所述基台的外壁固定连接有圆筒。
通过上述技术方案,通过设置圆杆等结构,需要对于原料进行研磨时,此时先将圆筒上的基台卡在矩形块上,而矩形块内的圆杆是在定位板上转动,此时为人员只要稍微转动圆杆,就可以让圆筒的角度发生一定改变此时启动伺服电机,让圆棒转动,从而搅动圆筒内的原料,而在搅动原料的同时,由于圆筒角度发生改变,从而让靠近圆筒附近的原料能在重力的作用下靠近圆棒,使得研磨更加充分。
优选的,所述圆筒的内壁活动连接有齿环,所述齿环的外壁均匀固定连接有第一磁块,所述圆筒的外壁滑动连接有第二磁块,两个所述第二磁块的外壁固定连接有连接杆,所述第一磁块和第二磁块彼此靠近的一端互为异名磁极。
通过上述技术方案,通过设置第一磁块等结构,使用时将齿环先与圆筒的内壁接触,此时利用第一磁块与第二磁块彼此靠近的一端互为异名磁极的特点,此时移动连接杆,就能带动齿环移动时击打圆筒内壁表面的结块。
优选的,所述圆杆的一端固定连接有齿轮,所述齿轮的外壁啮合有齿条,所述底板相对于齿条的外壁固定连接有固定块,所述固定块的外壁开设有滑槽,所述滑槽的内壁与齿条的外壁活动连接。
通过上述技术方案,人员可以通过移动在滑槽内滑动的齿条,来带动齿条上的齿轮转动,避免人员抓住圆杆长时间转动后,导致人员手酸。
优选的,所述齿条的外壁转动连接有限位架,所述限位架相对于齿条的外壁转动连接有凸轮,所述底板相对于凸轮的外壁固定连接有马达,所述马达的输出端与凸轮的外壁固定连接。
通过上述技术方案,为了方便人移动齿条,人员可以启动马达,马达带动凸轮转动,凸轮带动齿条移动,从而方便人员操作。
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