[实用新型]铬版清洗工具

说明书

本实用新型公开了铬版清洗工具，包括底座，所述底座的上端面设置有支撑柱，所述底座的上端面在远离支撑柱的一侧设置有用于放置铬版的卡槽。通过本实用新型所述清洗工具，改进光罩的清洗方式，使原有液体浸泡擦洗法清洗效果不佳，或无法清洗TFT等高端产品的状况得到彻底改变，并且能很好的提升光罩的清洗效率；不仅脏点清除明显，1um以上的脏污均可清洗干净，符合TFT贴膜清洗要求，且不需另外购置昂贵的超声波设备，本工具制作成本仅数百元，为企业节约了大量成本。

技术领域

本实用新型涉及液晶显示面板生产技术领域，具体涉及铬版清洗工具。

背景技术

随着显示技术的发展，对光罩产品的洁净度要求也越来越高，尤其是LED、TFT行业，精度发展到了纳米级别，任何细微的灰尘和脏污附着在产品图形上都会造成产品的不良甚至报废。为此，光罩在出货打包前必须进行清洗干净，并贴上光学膜，使光罩图形与外部环境隔绝避免受污染，提高下游产品的良率。另外，光罩制作出来后在扫描缺陷前也需要先进行清洗干净，避免太多脏污影响扫描确认。目前光罩行业现行的清洗方法主要有液体浸泡擦洗法和超声波清洗法，液体浸泡擦洗是将光罩泡在酸碱液中并用无尘布等工具擦拭冲洗，此法主要用在对洁净度要求不高的LCD、TP等行业产品，而超声波法更多的主要是针对TFT等高端行业产品，将光罩放入装有酸、碱、水等各种液体的超声波槽体中，在高频振动作用下将光罩上的各种脏污去除。

液体浸泡擦洗法是将光罩平放于冲洗槽内，使用DI水冲洗的同时不断用海绵擦拭光罩表面，已达到清洁的目的。对于LCD和TP类光罩，其图形相对简单，洁净要求不高，此法能较容易达到要求，但TFT类光罩，图形非常精细复杂，洁净要求高，脏污容易藏身于细小密集的图形中，光罩平放擦洗过程中脏污会随液体不断变换位置，但最终还是会有较多的脏点填充在图形中，基本上5um以下的脏污无法通过此法有效去除。超声波清洗法一般是使用十几个装有不同清洗液体的槽子，将光罩按次序置于这些槽体中，然后开启高频振子不断振动液体，在液体高频振动下将光罩表面的脏污去除，此法能达到很好的清洁效果，是现行行业内主流的清洗工具，但其明显的缺点是设备成本高，一套超声波清洗设备数十上百万，比较适用于大批量流水线型生产，但对于光罩这种小产量产品来说，无法显现出它的优势。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供铬版清洗工具，该工具能够将铬版倾斜固定，以便于对浸泡后的铬版进行冲洗，提高铬版的洁净度。

本实用新型通过下述技术方案实现：

铬版清洗工具，包括底座，所述底座的上端面设置有支撑柱，所述底座的上端面在远离支撑柱的一侧设置有用于放置铬版的卡槽。

本实用新型的上端面具体是指清洗工具使用时朝上的面。

本实用新型所述清洗清洗工具的使用过程：

1)、先将光罩置于化学药液中浸泡；2)、再将光罩倾斜置于清洗工具上，光罩一条边置于卡槽中，另一条边斜靠在支撑柱上；3)、操作者一只手握住支撑柱与光罩接触的部位，这样可以同时固定住清洗工具和光罩；4)、开启DI水龙头，使水柱从上往下不断冲刷在光罩上部位置；5)、冲水过程中，操作者另一只手拿着海绵沿水平方向不断擦拭光罩表面；6)、擦洗5分钟后，再冲水2分钟。

通过以上操作后，光罩上的脏污会随着水流不断往下流走，不会再重新污染光罩，清洁效果也得到极大改善，符合TFT产品的贴光学膜及出货要求。

通过本实用新型所述清洗工具，改进光罩的清洗方式，使原有液体浸泡擦洗法清洗效果不佳，或无法清洗TFT等高端产品的状况得到彻底改变，并且能很好的提升光罩的清洗效率。

进一步地，底座为U形板，所述支撑柱与U形板的底部连接，所述U形板的两个侧壁的上端面均设置有卡槽。

U形板由一个底部和两个侧壁构成，U形板的底部不是根据方位进行定义，而是根据U形板的具体结构组成进行定义。