[实用新型]一种一体瓦有效
申请号: | 202121967692.9 | 申请日: | 2021-08-20 |
公开(公告)号: | CN215829826U | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 钱青松 | 申请(专利权)人: | 钱青松 |
主分类号: | E04D1/02 | 分类号: | E04D1/02;E04D1/26;E04D13/16 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 汪丹琪 |
地址: | 313000 浙江省湖州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 一体 | ||
1.一种一体瓦,其特征在于,包括沿左右方向直线延伸并呈长直板状的板瓦体(1),所述板瓦体(1)具有朝向上方的上瓦面组(2)和朝向下方的下瓦面组(3),所述上瓦面组(2)上固定有上限位部(4),所述下瓦面组(3)上固定有下限位部(5)。
2.根据权利要求1所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面组(2)为一个连续的面,所述上限位部(4)突出在所述上瓦面组(2)上;所述下瓦面组(3)为一个连续的面,所述下限位部(5)突出在所述下瓦面组(3)上。
3.根据权利要求1所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面组(2)由至少两个离散的上瓦面(21)组成,所述上瓦面(21)沿所述板瓦体(1)的延伸方向均匀排列,并且所述上瓦面(21)的高度依序降低。
4.根据权利要求3所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上限位部(4)在左右方向上的位置处于相邻两个所述上瓦面(21)之间。
5.根据权利要求4所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上限位部(4)在上下方向上位于相邻两个所述上瓦面(21)之间。
6.根据权利要求5所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面(21)中在前后方向上的中间区域朝下方凹陷形成左右贯通的排水槽(22)。
7.根据权利要求6所述的一种一体瓦,其特征在于,所述下瓦面组(3)由若干个离散的下瓦面(31)组成,所述下瓦面(31)的数量与所述上瓦面(21)相同,所述下瓦面(31)沿所述板瓦体(1)的延伸方向均匀排列,并且所述下瓦面(31)的高度依序降低。
8.根据权利要求7所述的一种一体瓦,其特征在于,所述下限位部(5)在左右方向上的位置处于相邻两个所述下瓦面(31)之间,所述下限位部(5)在上下方向上位于相邻两个所述下瓦面(31)之间。
9.根据权利要求8所述的一种一体瓦,其特征在于,所述下瓦面(31)中在前后方向上的中间区域朝下方拱起。
10.根据权利要求9所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面(21)的前后两侧区域开设有供所述板瓦体(1)的前后两侧边缘嵌入的插接槽。
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