[实用新型]一种一体瓦有效

专利信息
申请号: 202121967692.9 申请日: 2021-08-20
公开(公告)号: CN215829826U 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 钱青松 申请(专利权)人: 钱青松
主分类号: E04D1/02 分类号: E04D1/02;E04D1/26;E04D13/16
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 汪丹琪
地址: 313000 浙江省湖州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 一体
【权利要求书】:

1.一种一体瓦,其特征在于,包括沿左右方向直线延伸并呈长直板状的板瓦体(1),所述板瓦体(1)具有朝向上方的上瓦面组(2)和朝向下方的下瓦面组(3),所述上瓦面组(2)上固定有上限位部(4),所述下瓦面组(3)上固定有下限位部(5)。

2.根据权利要求1所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面组(2)为一个连续的面,所述上限位部(4)突出在所述上瓦面组(2)上;所述下瓦面组(3)为一个连续的面,所述下限位部(5)突出在所述下瓦面组(3)上。

3.根据权利要求1所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面组(2)由至少两个离散的上瓦面(21)组成,所述上瓦面(21)沿所述板瓦体(1)的延伸方向均匀排列,并且所述上瓦面(21)的高度依序降低。

4.根据权利要求3所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上限位部(4)在左右方向上的位置处于相邻两个所述上瓦面(21)之间。

5.根据权利要求4所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上限位部(4)在上下方向上位于相邻两个所述上瓦面(21)之间。

6.根据权利要求5所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面(21)中在前后方向上的中间区域朝下方凹陷形成左右贯通的排水槽(22)。

7.根据权利要求6所述的一种一体瓦,其特征在于,所述下瓦面组(3)由若干个离散的下瓦面(31)组成,所述下瓦面(31)的数量与所述上瓦面(21)相同,所述下瓦面(31)沿所述板瓦体(1)的延伸方向均匀排列,并且所述下瓦面(31)的高度依序降低。

8.根据权利要求7所述的一种一体瓦,其特征在于,所述下限位部(5)在左右方向上的位置处于相邻两个所述下瓦面(31)之间,所述下限位部(5)在上下方向上位于相邻两个所述下瓦面(31)之间。

9.根据权利要求8所述的一种一体瓦,其特征在于,所述下瓦面(31)中在前后方向上的中间区域朝下方拱起。

10.根据权利要求9所述的一种一体瓦,其特征在于,所述上瓦面(21)的前后两侧区域开设有供所述板瓦体(1)的前后两侧边缘嵌入的插接槽。

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