[实用新型]一种晶圆外观检测设备

权利要求书

1.一种晶圆外观检测设备，其特征在于，包括料盒、取料工位、校准工位、检测工位和检测组件；

所述料盒设置在所述取料工位的一侧，用于待测晶圆的存放；

所述取料工位上设置有机械手和位移组件；所述机械手设置在所述位移组件上，用于所述待测晶圆的取放料，并可在所述位移组件的带动下实现所述待测晶圆在不同工位之间的位置切换；

所述校准工位设置在所述取料工位的一侧，用于所述待测晶圆向检测工位上料前的对位校准；所述检测工位与所述检测组件对应设置，分别用于校准后待测晶圆的承载与外观检测。

2.根据权利要求1所述的晶圆外观检测设备，其中，所述机械手的一端为连接所述位移组件的连接端，另一端为用于所述待测晶圆取料的取料端；

所述取料端的顶面上间隔设置有多个第一吸嘴，用于实现所述待测晶圆底部的吸附。

3.根据权利要求2所述的晶圆外观检测设备，其中，所述取料端的端部开设有缺口，且所述第一吸嘴间隔设置于所述缺口的外周。

4.根据权利要求1所述的晶圆外观检测设备，其中，所述检测工位上设置有检测台，并在该检测台上设置有用于承载、吸附所述待测晶圆的检测吸盘，以及在所述检测台底部设置有减振组件。

5.根据权利要求4所述的晶圆外观检测设备，其中，在所述检测吸盘与所述检测台之间设置有XY轴运动模组，使得所述检测吸盘可在该XY轴运动模组的带动下实现水平面内正交方向上的往复运动。

6.根据权利要求4所述的晶圆外观检测设备，其中，所述减振组件包括多个呈间隔设置的减振单元，且所述检测台在工作时以其底面同时支撑在各减振单元上；

所述减振单元包括一个基准单元和多个调节单元，对应各调节单元分别设置有比例控制阀，使得各调节单元可在对应比例控制阀的控制下配合所述基准单元完成所述检测台的减振。

7.根据权利要求6所述的晶圆外观检测设备，其中，在所述检测台的下方还设置有多个可升降的运输支撑脚，用于在该晶圆外观检测设备运输时将该检测台的底面支撑至远离所述减振单元顶面的位置，并在所述检测台工作时远离该检测台的底面。

8.根据权利要求7所述的晶圆外观检测设备，其中，所述运输支撑脚与所述减振单元一一对应设置，且所述检测台的四角处分别同时设置有所述运输支撑脚和所述减振单元。

9.根据权利要求5所述的晶圆外观检测设备，其中，所述检测组件设置在所述检测台上，其包括检测单元和对应该检测单元设置的Z轴模组，并使得所述检测单元可在该Z轴模组的带动下实现竖向的升降调节。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的晶圆外观检测设备，其中，还包括设备箱体；

所述料盒设置在所述设备箱体的外部，且所述取料工位、所述校准工位、所述检测工位中的部分或者全部设置在所述设备箱体内。