[实用新型]蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 202122005493.6 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN215440661U 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 赵利;孙军旗;刘芳军;孙玉群;鲁艳春 申请(专利权)人: 北海惠科半导体科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 邢涛
地址: 536000 广西壮族自治区北海市工业园区北*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 设备
【说明书】:

实用新型实施例公开了一种蒸镀设备,具有一蒸镀腔体,所述蒸镀设备包括:蒸镀源和蒸镀锅;蒸镀源,设置在所述蒸镀腔体的底部;其中,所述蒸镀源的数量设置至少两个,每个所述蒸镀源间隔排布,且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等;蒸镀锅,设置在所述蒸镀腔体的顶部,所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转;其中,单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料,所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域;所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域,所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。本实用新型实施例以此提高了蒸镀的效率。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种蒸镀设备。

背景技术

蒸镀,属于一种物理沉积,是通过某种方式将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料,气体分子蒸镀材料在真空环境中运动附着在待蒸镀物表面,从而在待蒸镀物表面形成薄膜的过程。

在现有的蒸镀锅公转蒸镀系统中,用于蒸镀晶圆的设备内只设置单个蒸镀源。然而。单个蒸镀源在蒸镀晶圆工作中,存在效率较低的问题,从而导致蒸镀工艺的时间长。另外,蒸镀工艺时间过长会使得设备内部温度过高,导致产品的良品率降低。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型实施例的目的是提供一种蒸镀设备,用于提高蒸镀的效率。

为了实现上述目的,本实用新型实施例提供了一种蒸镀设备,具有一蒸镀腔体,所述蒸镀设备包括:蒸镀源和蒸镀锅;蒸镀源,设置在所述蒸镀腔体的底部;其中,所述蒸镀源的数量设置至少两个,每个所述蒸镀源间隔排布,且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等;蒸镀锅,设置在所述蒸镀腔体的顶部,所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转;其中,单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料,所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域;所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域,所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。

可选地,所有所述蒸镀源的朝向都朝正上;所述总蒸镀区域包括第一叠加蒸镀区域和第一非叠加蒸镀区域,所述第一非叠加蒸镀区域在所述第一叠加蒸镀区域的周围,所述第一非叠加蒸镀区域大于所述第一叠加蒸镀区域;所述蒸镀锅对应所述第一非叠加蒸镀区域设置。

可选地,所有所述蒸镀源的中轴线穿过所述蒸镀锅的中心点公转所经过的路径。

可选地,所有所述蒸镀源的朝向都倾斜朝所述中心线;所述总蒸镀区域包括第二叠加蒸镀区域和第二非叠加蒸镀区域,所述第二非叠加蒸镀区域在所述第二叠加蒸镀区域的周围,所述第二非叠加蒸镀区域小于所述第二叠加蒸镀区域;所述蒸镀锅对应所述第二叠加蒸镀区域设置。

可选地,所述蒸镀设备还包括:导轨,所述导轨固定连接所述蒸镀腔体的内壁上;所述蒸镀锅的数量设置至少两个,至少两个所述蒸镀锅围绕所述中心线均匀分布,所有所述蒸镀锅设置在所述导轨上。

可选地,所述蒸镀设备还包括:支撑架,所述支撑架连接所有所述蒸镀锅;转轴,所述转轴连接所述支撑架;以及发动机,用于提供机械能给所述转轴。

可选地,所述蒸镀材料包括主体材料和掺杂材料;至少一个所述蒸镀源用于容纳所述主体材料,至少一个所述蒸镀源用于容纳所述掺杂材料。

可选地,所述蒸镀锅的蒸镀面为平面或凹面;其中,所述蒸镀面为所述蒸镀锅被蒸镀的一面。

可选地,所述蒸镀锅倾斜设置,所述蒸镀锅的所述蒸镀面朝向所述中心线。

可选地,以所述中心线为对称线,所述蒸镀源的数量设置两个,两个所述蒸镀源对称分布;或者以所述中心线为参考线,所述蒸镀源的数量设置三个,三个所述蒸镀源呈等边三角形分布。

上述技术方案,针对现有技术中的设备存在效率较低的问题,提供一种蒸镀设备,通过设置至少两个蒸镀源,单个蒸镀源会产生单个蒸镀区域,所有单个蒸镀区域构成总蒸镀区域,将公转的蒸镀锅设置在总蒸镀区域内,以此能够提高蒸镀的效率。

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