[实用新型]一种电控多缝衍射光栅设备

说明书

本实用新型涉及一种电控多缝衍射光栅设备，包括液晶盒，液晶盒内设置有偏光组件、玻璃基板、设置在玻璃基板上的ITO薄膜、以及液晶层；偏光组件包括上偏光片和下偏光片；玻璃基板包括上玻璃基板和下玻璃基板，上玻璃基板和下玻璃基板分别设置在上偏光片和下偏光片的内侧；液晶层设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间，液晶层的两侧分别设置有上PI导向膜和下PI导向膜。本实用新型能够通过液晶盒实现光栅的单缝衍射、双缝衍射和多缝衍射，并广泛应用于需要调整光栅参数的领域；根据液晶盒结构特征，当加电时，将液晶盒可以作为衍射光栅使用；通过控制ITO薄膜的电极加电或不加电、加电电极数量及相邻加电电极的间距，实现光栅参数的有限控制。

技术领域

本实用新型涉及光栅技术领域，具体地说是一种电控多缝衍射光栅设备。

背景技术

光栅(grating)是由大量等宽等间距的平行狭缝构成的光学器件。一般常用的光栅是在涂黑的玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕为不透光部分，两刻痕之间的光滑部分可以透光，相当于一狭缝。精制的光栅，在1cm宽度内刻有几千条乃至上万条刻痕。这种利用透射光衍射的光栅称为透射光栅，还有利用两刻痕间的反射光衍射的光栅，如在镀有金属层的表面上刻出许多平行刻痕，两刻痕间的光滑金属面可以反射光，这种光栅称为反射光栅。

光栅最早应用于光谱仪器，随着科学技术的发展，其在计量学、天文学、集成光学、光通信、原子能等方面已被广泛应用，在科研和技术等诸多领域成为无可替代的及其重要的工具，光栅推动了科学技术的发展，对光栅的需求也越来越大。因此，提供一种电控多缝衍射光栅设备，对其推广应用具有重要意义。

实用新型内容

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种电控多缝衍射光栅设备，以实现光栅的单缝衍射、双缝衍射和多缝衍射，并广泛应用于需要调整光栅参数的领域。

为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。

一种电控多缝衍射光栅设备，包括液晶盒，所述液晶盒内设置有偏光组件、玻璃基板、设置在玻璃基板上的ITO薄膜、以及液晶层；

所述偏光组件包括上偏光片和下偏光片；所述玻璃基板包括上玻璃基板和下玻璃基板，所述上玻璃基板和下玻璃基板分别设置在上偏光片和下偏光片的内侧；

所述上玻璃基板和下玻璃基板的内侧分别设置有上ITO薄膜、下ITO薄膜；

所述液晶层设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间，所述液晶层的两侧分别设置有上PI导向膜和下PI导向膜。

优选地，所述ITO薄膜为线条结构，相邻ITO薄膜之间设置有刻蚀间隙，ITO薄膜在玻璃基板上等间距阵列分布。

优选地，所述ITO薄膜的宽度为1～10μm，所述刻蚀间隙的宽度与所述ITO薄膜的宽度相等。

优选地，所述液晶层采用负性液晶，液晶层的厚度为D，D＝1.8～2.2μm；所述液晶层的光学双折射差值为Δn，Δn＝0.13～0.142μm。

优选地，所述上PI导向膜和下PI导向膜均采用预倾角大于等于89.5°的聚酰亚胺材料。

优选地，所述上PI导向膜和下PI导向膜的摩擦方向水平投影垂直于ITO薄膜的长边；所述上PI导向膜和下PI导向膜的摩擦方向在玻璃基板平面上反平行。

优选地，所述下偏光片的透过轴与下PI导向膜的摩擦方向成45°夹角，所述上偏光片的透过轴与下偏光片的透过轴在水平方向上的投影垂直。

本实用新型所获得的有益技术效果：

本实用新型能够通过液晶盒实现光栅的单缝衍射、双缝衍射和多缝衍射，并广泛应用于需要调整光栅参数的领域；根据液晶盒结构特征，当加电时，将液晶盒可以作为衍射光栅使用；通过控制ITO薄膜电极加电或不加电、加电电极数量及相邻加电电极的间距，实现光栅参数的有限控制，大大提高光栅参数的可调性。