[实用新型]脱模装置

说明书

本实用新型提供了一种脱模装置。载物平台具有载物面，待脱模件放置在载物面上；脱模结构朝向载物平台的一侧具有吸附面，吸附面为弧面，且弧面的弧心位于脱模结构的上方；驱动组件与脱模结构驱动连接，脱模结构具有初始位置、吸附过程和结束位置，当脱模结构处于初始位置和结束位置时，吸附面与载物平台之间具有第一预设高度，当脱模结构处于吸附过程时，脱模结构处于第二预设高度，第二预设高度小于第一预设高度，在吸附过程中，吸附面始终与待脱模件线接触，以使吸附面从待脱模件的一端向待脱模件的另一端逐渐压接并带动待脱模件的软模从待脱模件的基板脱离。本实用新型解决了现有技术中脱模装置存在脱模效果不理想且体积大的问题。

技术领域

本实用新型涉及纳米压印设备技术领域，具体而言，涉及一种脱膜装置。

背景技术

在纳米压印的过程中，将柔软的模具上的图案转印到基板的树脂上后，要将模具从基板上剥离，即脱模工序。现有的脱模通常是用滚轴将模具卷起的方式，滚轴是正圆形，滚轴中心不会在基板上出现上下方向的运动，而是水平方向进行移动，从而完成离型。这样的设备结构，压印面积越大，则需要的滚轴直径越大。同时，为了不破坏旁边的图案，最好能进行垂直脱模，因此滚轴直径越大越好，但是滚轴直径变大的话，设备尺寸也会随之变大，从而无法实现设备的小型化。

也就是说，现有技术中的脱模装置存在脱模效果不理想且体积大的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种脱模装置，以解决现有技术中脱模装置存在脱模效果不理想且体积大的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种脱模装置，包括：载物平台，载物平台具有载物面，待脱模件放置在载物面上；脱模结构，脱模结构朝向载物平台的一侧具有吸附面，吸附面为弧面，且弧面的弧心位于脱模结构的上方；驱动组件，驱动组件与脱模结构驱动连接，脱模结构具有初始位置、吸附过程和结束位置，当脱模结构处于初始位置和结束位置时，吸附面与载物平台之间具有第一预设高度，当脱模结构处于吸附过程时，脱模结构处于第二预设高度，第二预设高度小于第一预设高度，在吸附过程中，吸附面始终与待脱模件线接触，以使吸附面从待脱模件的一端向待脱模件的另一端逐渐压接并带动待脱模件的软模从待脱模件的基板脱离。

进一步地，脱模结构包括脱模板，脱模板具有吸附面。

进一步地，脱模结构包括：转动轴，驱动组件与转动轴驱动连接；脱模件，脱模件具有脱模板和多个连接板，多个连接板分别与脱模板的相对的两个侧边连接，且连接板的另一端与转动轴连接，转动轴与吸附面的距离小于吸附面的曲率半径。

进一步地，脱模结构包括吸附件，脱模板上设置有通孔，吸附件与通孔连通，以使通孔产生负压。

进一步地，吸附件至少位于脱模结构运动方向的两端。

进一步地，脱模板的厚度小于100毫米。

进一步地，脱模装置还包括压力机构，压力机构位于脱模板远离载物台的一侧，压力机构能够将脱模板压到待脱模件上。

进一步地，吸附面的曲率半径大于50毫米。

进一步地，驱动组件包括：架体，脱模结构活动设置在架体上；高度调节装置，高度调节装置与架体驱动连接，以驱动架体运动以调整脱模结构与载物平台之间的距离；驱动件，驱动件与脱模结构驱动连接，驱动件驱动脱模结构沿平行于载物平台的方向转动。

进一步地，架体包括：连接件，高度调节装置与连接件驱动连接；支撑件，支撑件与连接件连接，连接件与支撑件之间形成容置空间，脱模结构的至少一部分位于容置空间内，支撑件具有连通容置空间的开孔，吸附面位于容置空间的外部，且吸附面能够在开孔内摆动。

进一步地，架体还包括两个阻隔器，两个阻隔器间隔设置在容置空间内，脱模结构的转动轴在两个阻隔器之间运动，阻隔器对脱模做结构形成止挡以使脱模结构停止运动。