[实用新型]一种用于制备金刚石膜的沉积台

权利要求书

1.一种用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述沉积台包括：

衬底托，所述衬底托上顶面设置有容纳衬底的衬底卡槽；

基座，所述基座为轴对称结构，所述基座包括相互平行设置的圆形上顶面和圆形下底面，所述基座的上顶面中心沿其中心轴方向内凹形成容纳所述衬底托的阻温槽，所述阻温槽内侧壁与所述衬底托外侧壁之间留有一定间隙；

其中，所述衬底托、阻温槽、衬底卡槽均为圆柱结构或正棱柱结构，所述衬底托厚度阻温槽深度衬底托厚度+衬底厚度阻温槽深度+2mm。

2.如权利要求1所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述衬底为硅、二氧化硅、钼或钛材质。

3.如权利要求1所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述阻温槽内侧壁与所述衬底托外侧壁之间间隙为1~2mm。

4.如权利要求1所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述基座的上顶面面积小于下底面面积，所述上顶面与下底面之间通过弧面过渡。

5.如权利要求1所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述阻温槽内部设有衬底托的限位结构，所述限位结构为阻温槽底面内凹形成的限位凹槽，所述限位凹槽的直径或边长稍大于所述衬底托的直径或边长。

6.如权利要求1所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述衬底卡槽深度小于等于衬底厚度，大于等于衬底厚度的1/6。

7.如权利要求1所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述阻温槽直径或边长为衬底托直径或边长+1~2mm，所述衬底托卡槽的直径或边长为衬底直径或边长+1~2mm。

8.如权利要求1~7任一项所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述基座的下底面设有增温槽。

9.如权利要求8所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述增温槽包括以下底面中心的为圆心的圆环增温槽和/或沿下底面直径设置的直线增温槽。

10.如权利要求8所述的用于制备金刚石膜的沉积台，其特征在于，所述增温槽设有1~5个，每个所述增温槽的宽度为0.5~2mm，深度0.5~1mm。