[实用新型]一种MOSFET、IGBT封装集成结构有效

专利信息
申请号: 202122184580.2 申请日: 2021-09-10
公开(公告)号: CN215896390U 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 依志强;朱建新 申请(专利权)人: 吉林华微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/31;H01L23/495
代理公司: 吉林新发惠利知识产权代理事务所(普通合伙) 22216 代理人: 纪尚
地址: 132000 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 mosfet igbt 封装 集成 结构
【说明书】:

实用新型公开了一种MOSFET、IGBT封装集成结构,包括双向齐纳二极管、MOSFET或者IGBT、TVS二极管,其中双向齐纳二极管并联于MOSFET的GS极或者IGBT的GE极之间,TVS二极管并联于MOSFET的DS极或者IGBT的CE极之间,TVS二极管为单向瞬态电压抑制二极管,其负极与MOSFET的D极或者IGBT的C极相连,本实用新型能够使MOSFET、IGBT产品栅极耐压能力,抗电压冲击能力增强,并且不容易发生ESD和EAS失效。

技术领域

本实用新型涉及半导体封装领域,具体地,涉及一种MOSFET、IGBT封装集成结构。

背景技术

随着市场对电源的需求向小型化发展,尤其是智能移动终端对电源轻小型化需求更为明显,要求电源PCB上器件集成度高,功能全,空间占用小,MOSFET、IGBT这两种芯片是电源PCB上重要的组成器件,传统的封装结构由于保护结构不完善,会导致MOSFET、IGBT产品的栅极耐电压冲击能力差,容易发生ESD和EAS失效等问题。

实用新型内容

为克服上述现有技术的不足,本实用新型提供一种MOSFET、IGBT封装集成结构,使MOSFET、IGBT产品栅极耐压能力,抗电压冲击能力增强。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种MOSFET、IGBT封装集成结构,包括双向齐纳二极管、MOSFET或者IGBT、TVS二极管,所述双向齐纳二极管并联于MOSFET的GS极或者IGBT的GE极之间,所述TVS二极管并联于MOSFET的DS极或者IGBT的CE极之间。

优选地,所述TVS二极管为单向瞬态电压抑制二极管,其负极与MOSFET的D极或者IGBT的C极相连。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型通过在封装功率器件中,集成封装1-2个二极管,此二极管可以使用TVS二极管或者齐纳二极管,使MOSFET、IGBT产品栅极耐压能力,抗电压冲击能力增强。并且不容易发生ESD和EAS失效,此结构可以应用于插件、贴片功率器件产品结构改进设计,可以很好的满足市场对功率器件发展趋势的要求,降低客户生产成本,市场应用前景好。

附图说明

图1为本实用新型中MOSFET产品的封装连接结构示意图;

图2为本实用新型中IGBT产品的封装连接结构示意图;

图3为实施例1的示意图;

图4为实施例2的示意图;

图5为实施例3的示意图;

图中所示附图标记为:1-双向齐纳二极管、2-TVS二极管、3-MOSFET、4-IGBT、5-铝引线、6-铜框架、7-DBC覆铜板。

具体实施方式

以下结合附图对本设计方案进行详细说明。

如图1-图2所示,一种MOSFET、IGBT封装集成结构,包括双向齐纳二极管1、MOSFET3或者IGBT 4、TVS二极管2,其中双向齐纳二极管1并联于MOSFET 3的GS极或者IGBT 4的GE极之间,TVS二极管2并联于MOSFET 3的DS极或者IGBT 4的CE极之间。TVS二极管2为单向瞬态电压抑制二极管,其负极与MOSFET 3的D极或者IGBT 4的C极相连。

实施例1

如图3所示,各元器件固定于铜框架6上,双向齐纳二极管1安装在TO封装的管脚散热片处,并联在MOSFET 3的GS极之间,TVS二极管2并联在MOSFET 3的DS极之间,各器件之间通过铝引线5相连。此时实现的功能为MOSFET 3的栅极抗ESD能力显著增强。漏极抗EAS能力显著增强。

实施例2

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