[实用新型]一种光学镜片镀膜装置有效
申请号: | 202122235848.0 | 申请日: | 2021-09-15 |
公开(公告)号: | CN215799854U | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 解静;李建东 | 申请(专利权)人: | 南京泰迅光学仪器有限公司 |
主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28;C23C14/32;C23C14/50 |
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地址: | 210012 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学镜片 镀膜 装置 | ||
本实用新型公开了一种光学镜片镀膜装置,涉及镀膜技术领域,为了提高镀膜效率,所述底座的顶部设置有底部动力箱,所述底部动力箱顶部设置有镀膜箱,镀膜箱内的中心位置通过轴活动设置有支撑盘,所述支撑盘的内部设置有套筒,所述套筒的内部固定有第四气缸,所述第四气缸的顶部连接有连接件,所述连接件的顶部连接有第二吸盘,所述底部动力箱顶部设置有镀膜箱,本实用新型通过把镜片放到第二吸盘上进行固定,然后通过启动第一气缸,从而使真空室与套筒密封,然后把真空室抽真空,然后通过启动加热件和激光发生器,加热件和激光发生器使内部的镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,然后镀料就会落入到镜片上,从而实现了镀料均匀的目的。
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术领域,具体为一种光学镜片镀膜装置。
背景技术
镀膜是利用物理气相沉积技术在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程,对于光学镜片镀膜需要用到镀膜装置。
但是,现有的光学镜片镀膜装置镀膜过于麻烦,实用性不强。
实用新型内容
为了使提高镀膜效率,本实用新型提供了一种光学镜片镀膜装置。
本实用新型公开了光学镜片镀膜装置,采用如下的技术方案:一种光学镜片镀膜装置,包括底座,所述底座的顶部设置有底部动力箱,所述底部动力箱顶部设置有镀膜箱,镀膜箱内的中心位置通过轴活动设置有支撑盘,所述支撑盘的内部设置有套筒,所述套筒的内部固定有第四气缸,所述第四气缸的顶部连接有连接件,所述连接件的顶部连接有第二吸盘,所述底部动力箱顶部设置有镀膜箱,所述镀膜箱的顶部固定有第一气缸,所述第一气缸的底部连接有固定板,所述固定板顶部设置有限位杆,所述固定板底部固定有真空室,所述真空室内部设置有加热件,所述真空室内部靠近加热件的底部设置有激光发生器,所述真空室外部的一侧连接有气管。
可选的,所述限位杆穿过镀膜箱的顶部并延伸出去,所述套筒在支撑盘上设置有六个,且均匀排列,限位杆对固定板进行限位。
可选的,所述底部动力箱内部的底部固定有第一电机,所述第一电机的输出端连接有主动盘,所述主动盘的一侧活动连接有从动盘,所述从动盘的顶部通过轴与支撑盘的底部相互连接,第一电机提供动力,所述从动盘上开设有凹槽,所述凹槽在从动盘上设置有六个。
可选的,所述主动盘顶部设置有限位盘,所述主动盘顶部靠近限位盘的一侧设置有限位柱。
可选的,所述底部动力箱顶部的右侧固定有支撑箱,所述支撑箱的内部固定有第二电机,所述第二电机的输出端通过轴连接有旋转件,所述旋转件的一端固定有第三气缸,所述第三气缸的活塞端连接有第二气缸,所述第二气缸的活塞端连接有第一吸盘,第一吸盘对镜片进行固定。
可选的,所述旋转件设置有四个,所述旋转件关于旋转件中心上的轴对称。
可选的,所述第四气缸在套筒中设置有两个,且所述第四气缸关于套筒的中心位置对称。
综上所述,本实用新型包括以下至少一种有益效果。
1.通过设置有第二吸盘、连接件、加热件、激光发生器、气管和真空室实现了装置镀膜均匀的目的,因此,使用时,通过把镜片放到第二吸盘上进行固定,然后通过启动第一气缸,从而使真空室与套筒密封,然后把真空室抽真空,然后通过启动加热件和激光发生器,加热件和激光发生器使内部的镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,然后镀料就会落入到镜片上,从而实现了镀料均匀的目的。
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