[实用新型]一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置

说明书

本实用新型属于反应釜技术领域，具体为一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其包括底座，所述底座的顶部固定安装有保温箱，保温箱的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱，伸缩柱的顶部固定安装有放置板，伸缩柱的表面活动套接有弹簧，放置板的顶部放置有炉体，保温箱的内壁表面设置有保温层，底座位于保温箱两侧的顶部均活动插接有螺杆，螺杆的上表面螺纹套接有顶板，顶板的底部固定安装有主体杆，主体杆的底部固定安装有盖板，主体杆与盖板之间的表面固定套接有箱盖，本实用新型不仅可以避免反应釜表面的热量丢失，而且可以在反应釜反应完成后直接打开，无需等到反应釜冷却。

技术领域

本实用新型属于反应釜技术领域，具体为一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置。

背景技术

反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药和食品等领域，是用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，例如反应器、反应锅、分解锅、聚合釜等；材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金及其它复合材料。

反应釜在使用的时候表面会产生大量的热量，现有的反应釜不能将表面的热量进行保留，从而导致了大量的热量流失，造成资源的浪费，而且现有的反应釜由于表面温度过高，导致工作人员只能等反应釜冷却后才能将其打开，严重拖慢了工作的进度，因此，需要一种反应釜用温场平衡装置。

实用新型内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，有效的解决了上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有保温箱，所述保温箱的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱，所述伸缩柱的顶部固定安装有放置板，所述伸缩柱的表面活动套接有弹簧，所述放置板的顶部放置有炉体，所述保温箱的内壁表面设置有保温层，所述底座位于保温箱两侧的顶部均活动插接有螺杆，所述螺杆的上表面螺纹套接有顶板，所述顶板的底部固定安装有主体杆，所述主体杆的底部固定安装有盖板，所述主体杆与盖板之间的表面固定套接有箱盖。

进一步的，所述底座的内壁底部安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装有第一主动锥齿轮，所述第一主动锥齿轮的表面啮合有两个相互远离的第一从动锥齿轮，两个所述第一从动锥齿轮的内部均固定插接有相互远离的连接杆，所述连接杆远离第一从动锥齿轮的一端固定安装有第二主动锥齿轮。

进一步的，两个所述螺杆的底部均固定安装有第二从动锥齿轮，且所述第二从动锥齿轮分别与两个第二主动锥齿轮互相啮合。

进一步的，所述放置板的顶部开设有与炉体底部相匹配的放置槽。

进一步的，所述盖板的底部开设有与炉体顶部相匹配的环形槽。

进一步的，所述螺杆的顶部固定安装有限位块。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1)、本实用新型操作简便，而且可以避免工作人员直接触碰到反应釜，避免了烫伤等情况，具体操作为，正方向启动驱动电机，驱动电机会带动第一主动锥齿轮转动，第一主动锥齿轮会带动两个第一从动锥齿轮17转动，进而带动两个第二主动锥齿轮转动，进而带动螺杆转动，螺杆转动即可带动顶板向下移动，进而盖板会向下盖住炉体，盖住之后盖板继续向下压炉体，将炉体压至最底部，此时在弹簧和伸缩柱的作用下，即便该装置出现晃动，炉体也不会出现较大的晃动，箱盖和盖盖之间存在一定的距离，进而当盖板完全压住炉体时，箱盖正好对保温箱进行密封，此时打开炉体，即可对光学晶体进行加工，加工完成后，反向启动驱动电机即可将盖板和箱盖打开；

2)、本实用新型可以进行有效的保温，具体操作为，炉体表面的热量会在保温层的作用下，在保温箱内存留，避免由于热量的流失从而引起的光学晶体反应不充分的情况。