[实用新型]高精度二维运动台有效

专利信息
申请号: 202122293356.7 申请日: 2021-09-22
公开(公告)号: CN214839655U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 肖国丰;陈志强 申请(专利权)人: 北京瑞邦精控科技有限公司
主分类号: F16M11/04 分类号: F16M11/04;F16M11/18;F16F15/02;H02K41/02
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 代理人: 俞牡丹
地址: 101319 北京市顺义*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 高精度 二维 运动
【说明书】:

实用新型公开了一种高精度二维运动台,其特征在于,包括:底轴基座;底轴负载板,其两端分别通过一个第一交叉滚柱导轨滑动设于所述底轴基座的顶部,任一第一交叉滚柱导轨包括固设于所述底轴基座上的第一固定导轨,以及固设于所述底轴负载板上的第一滑动导轨;任一第一滑动导轨和与其相对应的第一固定导轨相互平行且彼此滑动连接,第一滑动导轨的长度小于第一固定导轨的长度;上轴负载板,其滑动设于所述底轴负载板上,所述上轴负载板相对所述底轴负载板的滑动方向与第一固定导轨垂直。本实用新型采用精密交叉滚柱导轨进行导向,并通过对交叉滚柱导轨进行部分改进从而实现二维非等行程运动,同时可满足于真空环境下使用。

技术领域

本实用新型涉及二维运动平台技术领域。更具体地说,本实用新型涉及一种高精度二维运动台。

背景技术

在精密加工、精密测量及半导体等行业中二维运动台有着广泛的应用,二维运动台包括运动机构和承载平台,运动机构带动承载平台在第一方向和第二方向移动,其中,第一方向和第二方向相互垂直。随着行业的不断发展,对于二维运动台的运行精度要求也越来越高,在二维运动中常常由于空间和使用要求的限制,第一方向和第二方向的不同的,使得运动台在设计之初就需要考虑空间和稳定性的要求。

为确保精确度,最常使用的运动台为气浮平台,然而对于需要在真空环境下运作的二维运动台,因气浮平台会引入其他介质进而对真空环境产生污染,因此对于精度很高的气浮平台并不能适用于真空环境。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决至少上述问题,并提供至少后面将说明的优点。

本实用新型还有一个目的是提供一种高精度二维运动台,可满足有限空间内高精度二维运动台的使用,提高设备运行的刚度和稳定性,同时可适用于真空环境。

为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点,提供了一种高精度二维运动台,其包括:

底轴基座;

底轴负载板,其两端分别通过一个第一交叉滚柱导轨滑动设于所述底轴基座的顶部,任一第一交叉滚柱导轨包括固设于所述底轴基座上的第一固定导轨,以及固设于所述底轴负载板上的第一滑动导轨;任一第一滑动导轨和与其相对应的第一固定导轨相互平行且彼此滑动连接,第一滑动导轨的长度小于第一固定导轨的长度;

上轴负载板,其滑动设于所述底轴负载板上,所述上轴负载板相对所述底轴负载板的滑动方向与第一固定导轨垂直。

优选的是,所述的高精度二维运动台,还包括:上轴基座,其设于所述底轴负载板与所述上轴负载板之间,所述上轴基座与所述底轴负载板的顶部固接,与所述上轴负载板的底部滑动连接。

优选的是,所述的高精度二维运动台,任一第一滑动导轨的长度和所述底轴负载板与第一固定导轨长度方向平行的侧边长度、所述上轴基座与第一固定导轨长度方向平行的侧边长度均相等。

优选的是,所述的高精度二维运动台,所述上轴负载板的两侧分别通过一个第二交叉滚柱导轨与所述上轴基座滑动连接,任一第二交叉滚柱导轨包括固设于所述上轴基座上的第二固定导轨,以及与所述上轴负载板固接的第二滑动导轨;任一第二固定导轨与第一固定导轨垂直;任一第二滑动导轨和与其相对应的第二固定导轨相互平行且彼此滑动连接,第二滑动导轨的长度与第二固定导轨的长度相等。

优选的是,所述的高精度二维运动台,还包括:

第一直线电机,其包括固设于所述底轴负载板上的第一电机动子以及固设于所述底轴基座上的第一电机定子;

第二直线电机,其包括固设于所述上轴负载板上的第二电机定子以及固设于所述上轴基座上的第二电机动子。

优选的是,所述的高精度二维运动台,还包括:

第一光栅尺,其固设于所述底轴基座上且与第一固定导轨平行设置;

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