[实用新型]投影装置

说明书

本实用新型提供一种投影装置。投影装置包括光源、空间光调制器、镜头模组以及光阑，光源用于出射照明光，空间光调制器用于接收照明光并出射图像光，镜头模组位于图像光的光路以接收图像光，光阑位于空间光调制器与镜头模组之间，光阑包括透光区和遮光区，透光区用于透射图像光，遮光区用于遮挡光源和空间光调制器出射的杂散光，有助于减少杂散光进入镜头模组，提高投影装置的成像质量。

技术领域

本申请涉及投影技术领域，具体而言，涉及一种投影装置。

背景技术

对于空间光调制器的投影方案中，空间光调制器能够将入射的主光线调制后产生图像光，图像光经镜头模组后出射至投影装置外可以实现投影装置的投影效果，而其他杂散光进入镜头模组后会降低投影装置的对比度和暗场成像质量，并且杂散光在照射至镜头模组边缘后，会造成成像画面出现热漂移和热失焦现象。因此，减小杂散光有助于提高投影装置的成像质量。

目前，市面上减少杂散光的方案主要是在壳体的空间光调制器处区域和盖板镜头模组安装处附近喷涂消光漆，虽然能吸收一部分杂散光，但是效果较差，成像质量不高。

实用新型内容

本申请实施方式提出了一种投影装置，以解决上述技术问题。

本申请实施方式通过以下技术方案来实现上述目的。

本申请实施方式提供一种投影装置，投影装置包括光源、空间光调制器、镜头模组以及光阑，光源用于出射照明光。空间光调制器用于接收照明光并出射图像光。镜头模组位于图像光的光路以接收图像光。光阑位于空间光调制器与镜头模组之间，光阑包括透光区和遮光区，透光区用于透射图像光，遮光区用于遮挡光源和空间光调制器出射的杂散光。

在一些实施方式中，投杂散光包括反射光、非图像光和衍射光，遮光区包括反射光遮光区、非图像光遮光区和衍射光遮光区，反射光遮光区、非图像光遮光区和衍射光遮光区均位于空间光调制器与镜头模组之间，反射光遮光区用于遮挡反射光，非图像光遮光区用于遮挡非图像光，衍射光遮光区用于遮挡衍射光。

在一些实施方式中，投影装置还包括棱镜模组，棱镜模组位于空间光调制器的出射光路，反射光遮光区、非图像光遮光区和衍射光遮光区均位于棱镜模组与镜头模组之间。

在一些实施方式中，杂散光包括反射光、非图像光和衍射光。光阑包括第一光阑以及第二光阑，第一光阑包括第一透光区和反射光遮光区，第一透光区用于透射图像光，反射光遮光区位于空间光调制器与镜头模组之间，反射光遮光区用于遮挡反射光。第二光阑包括第二透光区、非图像光遮光区和衍射光遮光区，第二透光区用于透射图像光，非图像光遮光区与衍射光遮光区均位于第一光阑与镜头模组之间，非图像光遮光区用于遮挡非图像光，衍射光遮光区用于遮挡衍射光。

在一些实施方式中，杂散光包括反射光、非图像光和衍射光。光阑包括第一光阑、第二光阑以及第三光阑，第一光阑包括第一透光区和反射光遮光区，第一透光区用于透射图像光，反射光遮光区位于空间光调制器与镜头模组之间，反射光遮光区用于遮挡反射光。第二光阑包括第二透光区和非图像光遮光区，第二透光区用于透射图像光，非图像光遮光区位于第一光阑与镜头模组之间，非图像光遮光区用于遮挡非图像光。第三光阑包括第三透光区和衍射光遮光区，第三透光区用于透射图像光，衍射光遮光区位于第二光阑与镜头模组之间，衍射光遮光区用于遮挡衍射光。

在一些实施方式中，投影装置还包括棱镜模组，棱镜模组位于空间光调制器的出射光路，反射光遮光区位于空间光调制器与棱镜模组之间。

在一些实施方式中，投影装置还包括棱镜模组，棱镜模组位于空间光调制器的出射光路，非图像光遮光区与衍射光遮光区位于棱镜模组与镜头模组之间。

在一些实施方式中，投影装置还包括棱镜模组，棱镜模组位于空间光调制器的出射光路，非图像光遮光区位于棱镜模组与镜头模组之间，衍射光遮光区位于第二光阑与镜头模组之间。