[实用新型]一种用于高分子材料加工的原料均化装置

权利要求书

1.一种用于高分子材料加工的原料均化装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的顶部固定安装有底架(2)，所述底架(2)的内部之间固定安装有机体(3)，所述机体(3)的顶部固定安装有入料口(4)，所述底板(1)的顶部固定安装有位于机体(3)两侧的竖杆(5)，所述竖杆(5)的顶端固定安装有固定块(6)，所述固定块(6)背面的一端与机体(3)的外侧固定连接，所述竖杆(5)的外表面活动套接有活动块(7)，所述活动块(7)的数量为两个，两个所述活动块(7)之间固定安装有位于机体(3)正下方的筛网箱(8)，所述筛网箱(8)背面的底部固定安装有安装板(12)，所述底板(1)的顶部固定安装有位于安装板(12)前方的驱动电机(9)，所述驱动电机(9)输出轴的另一端固定套接有转轴(10)，所述转轴(10)的外表面固定套接有位于安装板(12)正下方的转动块(11)，所述转动块(11)的外表面与安装板(12)的底部活动连接，所述竖杆(5)的外表面活动套接有位于底板(1)顶部和活动块(7)底部之间的柔性弹簧(13)，所述柔性弹簧(13)的一端与底板(1)的顶部固定连接，所述柔性弹簧(13)的另一端与活动块(7)的底部固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于高分子材料加工的原料均化装置，其特征在于：所述机体(3)的内部固定安装有位于入料口(4)正下方的导向块(14)，所述导向块(14)顶部的两侧均呈现为倾斜向下的状态。

3.根据权利要求2所述的一种用于高分子材料加工的原料均化装置，其特征在于：所述导向块(14)底部的两侧均活动安装有导料板(15)，所述导料板(15)的数量为两个，两个所述导料板(15)之间关于导向块(14)中心对称。

4.根据权利要求2所述的一种用于高分子材料加工的原料均化装置，其特征在于：所述导向块(14)底端的中部固定安装有气压缸(16)，所述气压缸(16)的底端固定安装有升降块(17)，所述升降块(17)的两侧均铰接有斜块(18)，所述斜块(18)的另一端与导料板(15)的内侧铰接。

5.根据权利要求1所述的一种用于高分子材料加工的原料均化装置，其特征在于：所述机体(3)底端的中部开设有排料口，且排料口的位于筛网箱(8)的正上方。

6.根据权利要求1所述的一种用于高分子材料加工的原料均化装置，其特征在于：所述机体(3)内腔底部的两侧均呈现为倾斜向下的状态，且机体(3)内腔的底部光滑。