[实用新型]薄膜加工设备及薄膜偏移修正装置有效
申请号: | 202122403286.6 | 申请日: | 2021-09-30 |
公开(公告)号: | CN215946274U | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 陈安顺 | 申请(专利权)人: | 群翊工业股份有限公司 |
主分类号: | B65H23/038 | 分类号: | B65H23/038;B65H20/12;B65H26/00 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人: | 史瞳;秦小耕 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 加工 设备 偏移 修正 装置 | ||
1.一种薄膜偏移修正装置,适用于装设在辊轮组处,并与所述辊轮组配合以卷动方式传送薄膜,其特征在于,所述薄膜偏移修正装置包含:
气流调节单元,用于控制气流的进出气;
平移驱动单元;
校正辊轮,与所述平移驱动单元连结,所述校正辊轮的表面形成多个连通所述气流调节单元的校正轮气孔,所述校正轮气孔处的气流进出能作用在所述薄膜上,使所述校正辊轮能在吸附或未吸附所述薄膜的状态之间变换;
固定辊轮,设置于所述校正辊轮与所述辊轮组之间,所述固定辊轮能与所述校正辊轮配合以卷动方式将所述薄膜往所述辊轮组传送,且所述固定辊轮的表面形成多个连通所述气流调节单元的固定轮气孔,所述固定轮气孔处的气流进出能作用在所述薄膜上,使所述固定辊轮能在吸附或未吸附所述薄膜的状态之间变换;及
偏移侦测器,设置于对应所述薄膜处,用于侦测所述薄膜的偏移量,
其中,当所述偏移侦测器测得的所述偏移量大于阈值时,所述校正辊轮及所述固定辊轮中至少会由所述校正辊轮吸附所述薄膜,且所述校正辊轮会受所述平移驱动单元驱动,使所述校正辊轮在吸附所述薄膜的状态下连同所述薄膜沿所述校正辊轮的轴向平移,让所述薄膜修正后的偏移量不大于所述阈值。
2.依据权利要求1所述的薄膜偏移修正装置,其特征在于:当所述偏移侦测器测得的所述偏移量大于所述阈值时,所述校正辊轮及所述固定辊轮都会吸附所述薄膜,且所述固定辊轮在所述校正辊轮带动所述薄膜沿轴向平移时对所述薄膜的吸附力小于所述固定辊轮在所述校正辊轮未带动所述薄膜平移时对所述薄膜的吸附力。
3.依据权利要求1所述的薄膜偏移修正装置,其特征在于:当所述偏移侦测器测得的所述偏移量大于所述阈值时,所述校正辊轮会先在未吸附所述薄膜的状态下相对所述薄膜轴向平移,而后所述校正辊轮会变换为在吸附所述薄膜的状态下连同所述薄膜反向平移,让所述薄膜修正后的偏移量不大于所述阈值。
4.依据权利要求1所述的薄膜偏移修正装置,其特征在于:所述固定辊轮的设置高度高于所述校正辊轮。
5.依据权利要求1所述的薄膜偏移修正装置,其特征在于:所述偏移侦测器是对准所述薄膜的边缘处的激光式循边侦测器。
6.一种薄膜加工设备,其特征在于,所述薄膜加工设备包含:
控制单元;
传送驱动单元,电连接于所述控制单元;
辊轮组,能被所述传送驱动单元驱动而以卷动方式传送薄膜;及
薄膜偏移修正装置,包括:
气流调节单元,电连接于所述控制单元,用于控制气流的进出气,
平移驱动单元,电连接于所述控制单元,
校正辊轮,与所述平移驱动单元、所述传送驱动单元连结,所述校正辊轮能被所述传送驱动单元驱动而以卷动方式传送所述薄膜,且所述校正辊轮的表面形成多个连通所述气流调节单元的校正轮气孔,所述校正轮气孔处的气流进出能作用在所述薄膜上,使所述校正辊轮能在吸附或未吸附所述薄膜的状态之间变换,
固定辊轮,设置于所述校正辊轮与所述辊轮组之间,且能被所述传送驱动单元驱动而以卷动方式传送所述薄膜,所述固定辊轮能与所述校正辊轮配合将所述薄膜往所述辊轮组传送,且所述固定辊轮的表面形成多个连通所述气流调节单元的固定轮气孔,所述固定轮气孔处的气流进出能作用在所述薄膜上,使所述固定辊轮能在吸附或未吸附所述薄膜的状态之间变换;及
偏移侦测器,设置于对应所述薄膜处且电连接于所述控制单元,用于侦测所述薄膜的偏移量,
其中,当所述控制单元判断所述偏移侦测器测得的所述偏移量大于阈值时,所述控制单元会令所述校正辊轮及所述固定辊轮中至少由所述校正辊轮吸附固定所述薄膜,且所述控制单元会令所述平移驱动单元驱动所述校正辊轮,使所述校正辊轮在吸附所述薄膜的状态下连同所述薄膜沿所述校正辊轮的轴向平移,让所述薄膜修正后的偏移量不大于所述阈值。
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