[实用新型]一种平推流塔式缩聚反应系统

权利要求书

1.一种平推流塔式缩聚反应系统，包括，塔式筒体，所述塔式筒体内设置有平推流工作区，所述平推流工作区与所述塔式筒体底部之间构成气相空间，所述塔式筒体中心轴位置含有贯穿于所述平推流工作区的气相通道，

其特征在于：

所述塔式筒体底部设有返混装置，所述返混装置使得从所述平推流工作区流出的物料依次从出料口采出。

2.根据权利要求1所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述返混装置包括，

外室套筒，所述外室套筒为两端开口的筒状结构，并靠近所述塔式筒体内侧壁设置，所述外室套筒的底部周向均匀设有若干槽孔，所述外室套筒的底端与所述塔式筒体底壁连接；

内室套筒，所述内室套筒为两端开口的筒状结构，设置在所述外室套筒内，所述内室套筒底端连接所述塔式筒体底壁。

3.根据权利要求2所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述外室套筒包括，

导流板，所述导流板的底部周向均匀设有若干槽孔，所述导流板的底端与所述塔式筒体底壁连接；

引流板，所述导流板顶端连接引流板，所述引流板将物料引入外室套筒与塔式筒体之间形成的空间。

4.根据权利要求3所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述引流板为向所述外室套筒内部收缩的锥形结构。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述塔式筒体内设有旋流涂抹装置，所述旋流涂抹装置包括，

气相导流筒，所述气相导流筒为一端开口的筒状结构，所述气相导流筒侧壁设有通气口；

旋流涂抹器，所述气相导流筒的开口连接所述旋流涂抹器。

6.根据权利要求5所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述旋流涂抹器为中心向所述塔式筒体底部凸出的锥形结构。

7.根据权利要求6所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述旋流涂抹器包括，

内环板，

外环板，

叶片，所述叶片设置在所述内环板与外环板之间；

所述叶片的径向夹角为5°～30°，叶片仰角5°～25°，叶片与内环板的相交线与内环板轴线的夹角为5°～70°，叶片与外环板的相交线与外环板轴线的夹角为45°～85°。

8.根据权利要求1至4任意一项所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述平推流工作区设有降膜单元，相邻两层降膜单元的气相通道之间存在夹缝，所述夹缝的宽度向所述塔式筒体底部逐渐增大。

9.根据权利要求8所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：所述降膜单元包括，

第一塔盘，所述第一塔盘外边缘连接所述塔式筒体侧壁，所述第一塔盘内边缘连接与气相通道同轴的第一环形堰板，所述第一环形堰板与气相通道之间存在环形夹缝；

第二塔盘，所述第二塔盘外边缘连接与气相通道同轴的第二环形堰板，所述第二环形堰板与所述塔式筒体侧壁之间存在环形夹缝；

塔盘环板，所述塔盘环板一端连接所述第二塔盘内边缘，另一端向所述塔式筒体顶部延伸，所述塔盘环板构成气相通道。

10.根据权利要求1至4任意一项所述的一种平推流塔式缩聚反应系统，其特征在于：

所述塔式筒体下部周向设有半盘管。