[实用新型]清洗机槽体溢流结构有效
申请号: | 202122407468.0 | 申请日: | 2021-10-08 |
公开(公告)号: | CN215696308U | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 王进;张进元;王永利;胡宏峰 | 申请(专利权)人: | 上海珺竹精密机械有限公司 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;B08B3/14;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙) 11825 | 代理人: | 周庆佳 |
地址: | 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 机槽体 溢流 结构 | ||
本实用新型公开清洗机槽体溢流结构,涉及硅片清洗领域。该清洗机槽体溢流结构,进料槽体的侧面依次安装有多组流转槽体,进料槽体和流转槽体的连接处顶部开设有溢流槽,进料槽体的内侧壁上安装有进水管,流转槽体的末端侧面开设有出水槽。该清洗机槽体溢流结构,通过进水管向进料槽体内部进行注水,当进料槽体内部的水注满后,水会通过溢流槽向流转槽体内部流动,同时水在不断注入后会通过出水槽流入到溢流盒内部,并最终通过落水管向外排出然后进行二次流转进入到进水管的内部,保证上层较为清澈的水源能够多次流转循环使用。
技术领域
本实用新型涉及硅片清洗技术领域,具体为清洗机槽体溢流结构。
背景技术
在硅片生产的过程中,硅片必须经过严格清洗,微量污染也会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态附着,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面,而清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
现在大多数采用一体式清洗机进行清洗,在清洗的过程中,针对于其表面不同类型的杂质,通常采用多个水槽进行分步清洗,但是多个清洗槽之间没有设置流转,在清洗时对于水源浪费较为严重,缺乏相应的节水系统,因此需要提供一种清洗机槽体溢流结构以解决上述问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型公开了清洗机槽体溢流结构,以解决上述背景技术中提出的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:清洗机槽体溢流结构,包括进料槽体,所述进料槽体的侧面依次安装有多组流转槽体,所述进料槽体和流转槽体的连接处顶部开设有溢流槽,所述进料槽体的内侧壁上安装有进水管,所述流转槽体的末端侧面开设有出水槽。
优选的,所述进料槽体和流转槽体的下表面中部均开设有排渣槽,所述排渣槽的一端下表面固定安装有导水管,所述排渣槽的另一端固定安装有挡水盖。
优选的,所述挡水盖的外表面固定安装有锁紧铰链,所述锁紧铰链的一端活动铰接有锁紧杆,所述锁紧铰链的另一端开设有锁紧卡槽。
优选的,所述流转槽体的侧面固定连接有曝气管,所述流转槽体的内底部固定安装有曝气喷头,所述曝气管与曝气喷头内部相连通,所述曝气喷头的顶部安装有挡板。
优选的,所述进料槽体和流转槽体的底端内部均固定安装有电热管,所述进料槽体和流转槽体的侧面均固定连接有喷淋管,所述进料槽体和流转槽体的内侧壁上固定连接有安装条。
优选的,所述流转槽体的末端固定安装有溢流盒,所述出水槽正对溢流盒,所述溢流盒的外表面固定连接有落水管。
本实用新型公开了清洗机槽体溢流结构,其具备的有益效果如下:
1、该清洗机槽体溢流结构,通过进水管向进料槽体内部进行注水,当进料槽体内部的水注满后,水会通过溢流槽向流转槽体内部流动,最终使得进料槽体和流转槽体内部均注满水,同时水在不断注入后会通过出水槽流入到溢流盒内部,并最终通过落水管向外排出然后进行二次流转进入到进水管的内部,保证上层较为清澈的水源能够多次流转使用,节约水源。
2、该清洗机槽体溢流结构,在清洗过程中,清洗出来的杂质会最终沉积到排渣槽内部,此时通过从导水管处外接水源,然后将锁紧铰链取下,将挡水盖打开,此时在导水管的进水导流作用下将沉积在排渣槽内部的杂质向外排出,方便进行杂质清理。
附图说明
图1为本实用新型整体正面结构示意图;
图2为本实用新型整体背面结构示意图;
图3为本实用新型进料槽体和流转槽体内部结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海珺竹精密机械有限公司,未经上海珺竹精密机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202122407468.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种真空钎焊用下料装置
- 下一篇:一种连接轴承双向同步压装治具