[实用新型]一种HARP设备的真空气路结构有效

专利信息
申请号: 202122425574.1 申请日: 2021-10-09
公开(公告)号: CN216624234U 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 赵兴;韩晓刚;裴雷洪 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/67
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 harp 设备 空气 结构
【权利要求书】:

1.一种HARP设备的真空气路结构,其特征在于,所述HARP设备内的加热器表面形成有真空吸附气孔和泄压气孔,所述真空吸附气孔与真空管路连通,所述泄压气孔与旁路管路连通,所述真空管路提供真空以吸附晶圆,所述旁路管路提供气体以解除对晶圆的真空吸附及与对所述HARP设备的腔体进行泄压。

2.如权利要求1所述的真空气路结构,其特征在于,所述真空吸附气孔与所述泄压气孔相间设置。

3.如权利要求1所述的真空气路结构,其特征在于,所述真空管路设置有真空控制阀,对晶圆进行HARP工艺过程中,所述真空控制阀处于打开状态,所述HARP工艺结束后,所述真空控制阀处于关闭状态。

4.如权利要求1所述的真空气路结构,其特征在于,所述旁路管路设置有旁路控制阀,对晶圆进行HARP工艺过程中,所述旁路控制阀处于关闭状态,所述HARP工艺结束后,所述旁路控制阀处于打开状态。

5.如权利要求4所述的真空气路结构,其特征在于,所述旁路管路安装有滤芯以用于过滤气体。

6.如权利要求5所述的真空气路结构,其特征在于,所述滤芯安装于所述旁路控制阀与所述泄压气孔之间。

7.如权利要求1所述的真空气路结构,其特征在于,所述真空管路连通于厂务端真空系统。

8.如权利要求7所述的真空气路结构,其特征在于,所述厂务端真空系统产生的负压低于所述HARP设备的腔室的压力。

9.如权利要求1所述的真空气路结构,其特征在于,所述旁路管路连通于厂务端供气系统。

10.如权利要求9所述的真空气路结构,其特征在于,所述厂务端供气系统提供的气体的压力大于所述HARP设备的腔室的压力,所述厂务端供气系统提供的气体为干燥压缩空气或氮气或氩气。

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