[实用新型]一种用于陶瓷胚片的清扫装置

权利要求书

1.一种用于陶瓷胚片的清扫装置，包括工作台（1），所述工作台（1）顶部两侧边缘处均固定设有侧架（2），其特征在于：所述工作台（1）顶部内开设有滑槽（3），两组侧架（2）相靠近的一侧分别固定设有第一电机（4）和轴承（5），所述第一电机（4）的电机轴固定连接有丝杆（6），丝杆（6）远离第一电机（4）一端固定于轴承（5）内圈中，滑槽（3）内滑动连接有滑块（7），滑块（7）顶部固定连接有机架（8），机架（8）内贯通开设有螺纹孔（17），丝杆（6）表面通过螺纹结构与螺纹孔（17）内壁面相连接，机架（8）表面通过螺栓固定设有第二电机（9），第二电机（9）的电机轴固定连接有装配辊（10），所述装配辊（10）上套设有清洁棉套（11）和两组限位环（12），工作台（1）侧面内开设有调节孔（13），工作台（1）顶部设有夹块（14），夹块（14）侧面固定连接有辅助块（15），辅助块（15）内贯通开设有穿孔（16），穿孔（16）与调节孔（13）内通过螺纹结构连接有紧固螺栓。

2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷胚片的清扫装置，其特征在于：所述工作台（1）顶面呈倾斜设置。

3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷胚片的清扫装置，其特征在于：所述滑槽（3）沿工作台（1）顶面倾斜长度延伸方向设置，滑槽（3）与滑块（7）正面呈相匹配的倒“T”型几何形状。

4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷胚片的清扫装置，其特征在于：所述装配辊（10）表面通过螺纹结构与限位环（12）内壁面相连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷胚片的清扫装置，其特征在于：所述调节孔（13）沿工作台（1）顶面倾斜长度延伸方向等距设有多组，夹块（14）与辅助块（15）相垂直设置。