[实用新型]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 202122542017.8 申请日: 2021-10-21
公开(公告)号: CN216622814U 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 张永明;赖建勋;刘耀维 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 代理人: 聂宁乐;赵丽丽
地址: 中国台湾台中*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:

一第一透镜,具有正屈折力,其物侧面于光轴上为凹面,像侧面于光轴上为凸面;

一第二透镜,具有正屈折力;

一第三透镜,具有屈折力;

一第四透镜,具有屈折力;

一第五透镜,具有屈折力;以及

一成像面,其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为五枚,且,所述第三透镜至所述第五透镜中至少一个透镜具有正屈折力,所述第一透镜至所述第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4、f5,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像镜片系统之入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第五透镜像侧面于光轴上具有一距离InTL,所述光学成像系统之最大可视角度的一半为HAF,所述透镜中的任一个透镜的任一个表面与光轴的交点为起点,延着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径之垂直高度处的坐标点为止,两点间的轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:2.0≤f/HEP≤2.4;45 degHAF≤55 deg以及0.9≤2(ARE /HEP)≤2.0。

2.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第二透镜之物侧面以及像侧面于光轴上均为凸面,所述第四透镜之物侧面于光轴上为凸面并且像侧面于光轴上为凹面。

3.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第一透镜、第二透镜、所述第三透镜、所述第四透镜与第五透镜于光轴上的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4以及TP5,其满足下列条件:TP4 TP2 TP5 TP1 TP3。

4.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第四透镜与第五透镜于光轴上的厚度分别为TP4以及TP5,其满足下列条件:2.1≤TP4 / TP5≤3.1。

5.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第二透镜与第四透镜于光轴上的厚度分别为TP2以及TP4,其满足下列条件: 1.2≤TP4 / TP2≤1.9。

6.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统满足下列条件:9≤|f1/f4|≤15。

7.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统于结像时之TV畸变为TDT,其中所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述光学成像系统的正向子午面光扇之最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇之最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以PSTA表示,负向子午面光扇之最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以NLTA表示,负向子午面光扇之最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以NSTA表示,弧矢面光扇之最长工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以SLTA表示,弧矢面光扇之最短工作波长通过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以SSTA表示,其满足下列条件:PLTA≤100微米;PSTA≤100微米;NLTA≤100微米;NSTA≤100微米;SLTA≤100微米;以及SSTA≤100微米;│TDT│2 %。

8.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述透镜中的任一个透镜的任一个表面的最大有效半径以EHD表示,所述透镜中的任一个透镜的任一个表面与光轴的交点为起点,延着所述表面的轮廓直到所述表面之最大有效半径处为终点,两点间的轮廓曲线长度为ARS,其满足下列公式:0.9≤ARS /EHD≤2.0。

9.如权利要求1所述的光学成像系统,其中更包括一光圈,并且于所述光圈至所述成像面于光轴上具有一距离InS,其满足下列公式:0.79≤InS/HOS≤0.83。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进光电科技股份有限公司,未经先进光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202122542017.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top