[实用新型]一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃

权利要求书

1.一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基底(1)上向外依次设置有第一介质层(2)、第一功能层(3)、第一保护层(4)、第二介质层(5)、第二保护层(6)、第二功能层(7)、第三保护层(8)、第三介质层(9)、第四介质层(10)，所述第二保护层(6)为金属保护层，所述第四介质层(10)为致密介质层。

2.如权利要求1所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二保护层(6)为镍铬合金层，所述第四介质层(10)为氮化锆层。

3.如权利要求1或2所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)为氮化硅层或者锌锡氧化物层或者锌铝氧化物层，所述第二介质层(5)为氧化锡层或者锌锡氧化物层或者锌铝氧化物层，所述第三介质层(9)为氮化硅层，所述第一功能层(3)和第二功能层(7)均为银层或银合金层，所述第一保护层(4)和第三保护层(8)均为镍铬合金层。

4.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)为氮化硅层。

5.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二介质层(5)为氧化锡层。

6.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层(3)和第二功能层(7)均为银层。

7.如权利要求1或2所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二保护层(6)的厚度为1～2nm，所述第四介质层(10)的厚度为5～10nm。

8.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)的厚度为25～35nm，所述第二介质层(5)的厚度为60～65nm，所述第三介质层(9)的厚度为30～40nm，所述第四介质层(10)的厚度为5～10nm。

9.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层(3)的厚度为4～10nm，所述第二功能层(7)的厚度为10～15nm，所述第一保护层(4)的厚度为1～2nm，所述第二保护层(6)的厚度为0.8～2nm，所述第三保护层(8)的厚度为3～5nm。

10.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)的厚度为35nm，第一功能层(3)的厚度为4nm，第一保护层(4)的厚度为2nm，第二介质层(5)的厚度为60nm，第二保护层(6)的厚度为0.8nm，第二功能层(7)的厚度为12nm，第三保护层(8)的厚度为4nm，第三介质层(9)的厚度为30nm，第四介质层(10)的厚度为5nm。