[实用新型]一种热转印硅胶烫画有效

专利信息
申请号: 202122657638.0 申请日: 2021-11-02
公开(公告)号: CN216033471U 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 蔡德成 申请(专利权)人: 广州鸿彩烫画制品有限公司
主分类号: B44C5/04 分类号: B44C5/04;B32B33/00;B32B27/36;B32B27/40;B32B15/00
代理公司: 成都言成诺知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51314 代理人: 张川
地址: 510000 广东省广州市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 热转印 硅胶
【说明书】:

实用新型涉及热转印烫画技术领域,具体为一种热转印硅胶烫画,包括耐热基层,所述耐热基层的上表面设置有第一离型层,所述第一离型层的上表面设置有光扩散层,所述光扩散层的上表面设置有第二离型层,所述第二离型层的上表面设置有第一印刷层,所述第一印刷层的上表面设置有透明胶水层,所述透明胶水层的上表面设置有第二印刷层,所述第二印刷层的上表面设置有金属层,所述金属层的上表面设置有热熔胶层。本实用新型的优点在于:通过光扩散层的设置,解决了烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小的问题;通过金属层、第一印刷层以及第二印刷层的配合设置,解决了烫画结构立体感不足,视觉效果一般的问题。

技术领域

本实用新型涉及热转印烫画技术领域,特别是一种热转印硅胶烫画。

背景技术

硅胶烫画是烫画里的一个类别,其原理就是通过热转印的方式把图案转移到被烫物上面,它采用胶水和烫画油墨的生产工艺制作而成的,成分环保,手感柔软,同时也很耐拉伸,耐水洗,表面没有胶水边,而且不会色迁移,可以保持图案颜色鲜艳不变。

现有的热转印硅胶烫画的缺点是:

1、现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小;

2、现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的立体感不足,同时没有金属色进行复合影响视觉效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点,改善了产品的内部结构,防止了由于烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小的问题;改善了产品的内部结构,防止了由于烫画结构的立体感不足,同时没有金属色进行复合影响视觉效果的问题。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种热转印硅胶烫画,包括耐热基层,所述耐热基层的上表面设置有第一离型层,所述第一离型层的上表面设置有光扩散层,所述光扩散层的上表面设置有第二离型层,所述第二离型层的上表面设置有第一印刷层,所述第一印刷层的上表面设置有透明胶水层,所述透明胶水层的上表面设置有第二印刷层,所述第二印刷层的上表面设置有金属层,所述金属层的上表面设置有热熔胶层。

可选的,所述耐热基层为一种聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述耐热基层的另一侧设置有背涂层,使得在烫画的过程中,基层材料不会受到持续加热的影响,进而增加结构的整体稳定性,同时背涂层能够保证在印刷过程中走料准确、不粘连、不打滑。

可选的,所述第一离型层以及第二离型层为一种氟离型层,所述第一离型层的表面以及第二离型层的表面分别于光扩散层的表面进行紧密贴合,通过在第一离型层以及第二离型层的中间添加光扩散层,使得光线通过光扩散层进行多角度的扩散,达到初步的扩散效果。

可选的,所述光扩散层为一种有机硅光扩散剂,所述光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽,由于有机硅光扩散剂的细小的呈纳米球体颗粒,光线可以直接穿过纳米球体,在纳米球体中经过无数次的折射后在穿透,使得光线经过折射后达到均匀的分散,将入射进来的点光源分散成面光源,进一步的扩大了发光面,达到光扩散的效果,同时通过倒金字塔凹槽的设置,使得光线在倒金字塔凹槽的内部表面经过多次的发射,从而进一步的达到光扩散的效果。

可选的,所述透明胶水层为一种水性透明聚氨酯涂层,所述第一印刷层的印刷图案与第二印刷层的印刷图案相吻合,使得在不影响印刷效果的同时,增加第一印刷层与第二印刷层之间的连接性,同时增加第一印刷层与第二印刷层之间的防水性。

可选的,所述金属层为一种雾面金属层,使得在进行加热后,便于将具有金属图案转印下来,从而使得图案具有金属光泽,增加图案的效果。

本实用新型具有以下优点:

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