[实用新型]一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪有效
申请号: | 202122670215.2 | 申请日: | 2021-11-03 |
公开(公告)号: | CN216192863U | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 肖旋 | 申请(专利权)人: | 沈阳正恒科技有限公司 |
主分类号: | C25F3/16 | 分类号: | C25F3/16 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110000 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 试样 曲面 深度 旋转 电解 抛光 | ||
本实用新型提供一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪,涉及旋转电解抛光仪技术领域。所述基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪包括电解抛光仪主体,还包括:支撑腿,所述电解抛光仪主体下表面位于四角的位置均固定连接有支撑腿;具有转向功能的移动组件,所述支撑腿内嵌合有具有转向功能的移动组件,所述具有转向功能的移动组件用于对电解抛光仪主体进行位置移动;限位组件,所述限位组件插接于支撑腿内,且与所述具有转向功能的移动组件相连接。在电解抛光仪主体底部设置嵌合于支撑腿内的具有转向功能的移动组件,从而能够驱动电解抛光仪主体进行位置移动,进而可以减少人力的消耗,提升工作进度的优点。
技术领域
本实用新型涉及旋转电解抛光仪技术领域,尤其涉及一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪。
背景技术
电解抛光腐蚀仪是利用电化学原理进行金相试样制备,既可用于金相试样抛光,也可用于金相试样腐蚀的金相试验设备,电解抛光腐蚀仪可实现恒定电压、恒定电流方式工作,可控制样试样的电解电流密度,能快速而有效地对金属材料进行电解抛光和腐蚀,具有重复性好,操作控制方便等特点。
现有的旋转电解抛光仪大多放置于操作台上,若需要对其进行移动,需要通过工作人员对其进行搬运,而由于旋转电解抛光仪为金属材质制成,在搬运时,不仅会消耗一定的人力,也会耽误一定的工作进度。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪。
本实用新型提供的基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪包括:电解抛光仪主体,还包括:支撑腿,所述电解抛光仪主体下表面位于四角的位置均固定连接有支撑腿;具有转向功能的移动组件,所述支撑腿内嵌合有具有转向功能的移动组件,所述具有转向功能的移动组件用于对电解抛光仪主体进行位置移动;限位组件,所述限位组件插接于支撑腿内,且与所述具有转向功能的移动组件相连接。
优选的,所述支撑腿的下表面开设有容腔,所述具有转向功能的移动组件嵌合于容腔内。
优选的,所述具有转向功能的移动组件包括固定座,所述固定座位于容腔内,所述固定座的下表面固定连接有连接柱,所述连接柱的另一端固定连接有球体,所述固定座的下方设置有连接座,所述连接柱以及球体与连接座转动连接,所述连接座下表面固定连接有镜像设置的弧形块,两个所述弧形块之间转动连接有转轴,所述转轴外部固定连接有滚轮。
优选的,所述连接柱以及球体与连接座转动连接,具体是,所述连接座的上表面开设有开口向上的第一圆槽,所述第一圆槽的槽底开设有仿形槽,所述连接柱与第一圆槽相适配,所述球体与仿形槽相适配。
优选的,所述固定座两侧均开设有第二圆槽,两个所述第二圆槽内均嵌合有限位组件。
优选的,所述限位组件包括固定圆盘,所述固定圆盘的一端与第二圆槽的槽底固定连接,所述固定圆盘的另一端连接有弹簧,所述弹簧的另一端固定连接有限位卡柱。
优选的,所述支撑腿两侧均开设有两个限位圆孔,所述限位卡柱与两个限位圆孔均相适配。
与相关技术相比较,本实用新型提供的基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪具有如下有益效果:
本实用新型提供一种基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪,在电解抛光仪主体底部设置嵌合于支撑腿内的具有转向功能的移动组件,从而能够驱动电解抛光仪主体进行位置移动,进而可以减少人力的消耗,提升工作进度。
附图说明
图1为本实用新型提供的基于试样曲面深度剥层的旋转电解抛光仪的一种较佳实施例的整体结构示意图;
图2为本实用新型所示的具有转向功能的移动组件底部的结构示意图;
图3为本实用新型所示的图2局部爆炸剖视的结构示意图;
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