[实用新型]一种旋转气道超声雾化喷头结构

说明书

本实用新型公开了一种旋转气道超声雾化喷头结构，包括换能器、上壳体、下壳体、旋转气道端盖，所述旋转气道端盖与所述下壳体的下方固定连接，所述旋转气道端盖中心形成具有锥形侧壁的中心出气道腔室，所述锥形侧壁上开设有螺旋槽，所述上壳体的上方连接有第一进气快接，压缩气体经由第一进气快接进入至所述上下壳体的空腔内混匀后，再经所述下壳体的槽缝出气进入至所述中心出气道腔室中，再沿所述螺旋槽方向从所述换能器与所述中心出气道腔室之间的缝隙流出，以形成第一路中心旋转气道。本实用新型提供的喷头结构在工作时，液体由换能器雾化后，第一路中心旋转气道对气体形成轴向的旋转引导作用，方向自上而下的，不会使液滴倒流，方向稳定。

技术领域

本实用新型涉及超声技术领域，特别涉及一种旋转气道超声雾化喷头结构。

背景技术

超声波喷涂：超声喷涂是利用超声波产生的毛细波雾化功能，对流经超声换能器工作端的液体进行雾化，产生微米级细小液滴，引入适当压力的气体后，使雾粒在气流作用下匀化、碎小，同时气流带动雾粒运行并引导雾粒的运行方向，从而达到对待涂物体表面实现精密喷涂的目的。

传统的喷涂用超声换能器中间通液体，在工作端面的外围增加气道，气道的方式一般是将换能器包裹在中心，引导气体以圆柱体的形态自上而下进行覆盖，这样的方式只是形成了圆面的喷涂，在大面积喷涂场合需要多次往复的圆面覆盖才能保证全区域的覆盖，但这种方式又导致了喷涂的层厚不一，喷涂的效果差异较大。

此外，上述的气道只能实现自上而下的直线型气场覆盖，在某些特定场合下，圆柱体形态的气场覆盖不能实现特定要求的喷涂工艺，如如光刻胶薄膜制备就必须采用旋转式工艺。

现有的旋转形式多采用旋转离心式结构，即通过离心力的作用将液滴颗粒分离后涂覆到被涂物的表面，但这种工艺方式涂覆效率极低，大量液体被飞离，造成大量浪费，部分液体含有多种有机溶剂会对环境和人体健康造成较大损害；旋转离心式喷涂的雾化液滴大小不均匀，极易造成涂覆的不均匀；涂覆后的膜厚度受到液体的粘度、表面张力和旋转速度等因素决定，极不稳定；涂层工艺不精密不可控，不适合喷涂量低的精密喷涂；因此亟待寻找更佳的涂覆工艺。

实用新型内容

为克服现有技术的不足，本实用新型公开了一种旋转气道超声雾化喷头结构。

为实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现：

本实用新型公开了一种旋转气道超声雾化喷头结构，包括换能器、上壳体、下壳体和旋转气道端盖，所述换能器设置于所述上壳体和下壳体中，换能器的工作端位于所述旋转气道端盖中，所述旋转气道端盖与所述下壳体的下方固定连接，所述旋转气道端盖中心形成具有锥形侧壁的中心出气道腔室，所述锥形侧壁上开设有螺旋槽，所述上壳体的上方连接有第一进气快接，压缩气体经由第一进气快接进入至所述上壳体和下壳体的空腔内混匀后，再经所述下壳体的槽缝出气进入至所述中心出气道腔室中，再沿所述螺旋槽方向从所述换能器与所述中心出气道腔室之间的缝隙流出，以形成第一路中心旋转气道。

优选的，所述旋转气道端盖位于所述中心出气道腔室的上方的外圈设置有一环形通道，所述环形通道的侧壁上设置有两个左右对称的斜锥形进气槽，所述斜锥形进气槽连通所述环形通道和所述中心出气道腔，所述斜锥形进气槽的方向与所述螺旋槽的方向是一致，所述下壳体的一侧边设有第二进气快接，所述第二进气快接与所述环形通道连通，压缩气体经由所述第二进气快接进入至所述环形通道内，再通过所述斜锥形进气槽进入到所述中心出气道腔内并与所述第一路中心旋转气道进行混和，以形成第二路旋转气道。

优选的，所述螺旋槽螺旋式斜向下出气，所述螺旋槽的出气口与所述换能器的工作头相切。

优选的，所述锥形侧壁的上方衔接一段圆柱形侧壁，所述锥形侧壁形成所述中心出气道腔的上部分。

优选的，所述旋转气道端盖通过出气道锁紧圈与所述下壳体的锁定。