[实用新型]一种杯状纵磁真空灭弧室触头及真空灭弧室有效
申请号: | 202122710119.6 | 申请日: | 2021-11-05 |
公开(公告)号: | CN216213106U | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 张立婷;李鹏;李森 | 申请(专利权)人: | 陕西宝光真空电器股份有限公司 |
主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664;H01H33/66 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王士强 |
地址: | 721016 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 杯状纵磁 真空 灭弧室触头 灭弧室 | ||
1.一种杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,包括:
触头座(2),所述触头座(2)中部设置有连接杆(21),所述连接杆(21)的一端凸出所述触头座(2)的端面设置;
触头盘(1),所述触头盘(1)上设有与所述连接杆(21)配合的连接开口(11),所述连接杆(21)能伸入所述连接开口(11)将所述触头座(2)与所述触头盘(1)铆接固定。
2.根据权利要求1所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述连接杆(21)凸出所述触头座(2)的端面的一端设置有铆接结构(22)。
3.根据权利要求1所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述连接开口(11)为喇叭口结构,所述连接开口(11)的最大直径大于所述连接杆(21)的直径,所述连接开口(11)的最小直径等于所述连接杆(21)的直径。
4.根据权利要求1所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述触头盘(1)靠近所述触头座(2)的一侧设置有第一定位结构(12),所述触头座(2)靠近所述触头盘(1)的一侧设置有第二定位结构,所述第一定位结构(12)与所述第二定位结构配合定位。
5.根据权利要求4所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述第一定位结构(12)与所述第二定位结构配合处设置有钎料(4)。
6.根据权利要求1所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述触头盘(1)上设有多个第一开槽(13),多个所述第一开槽(13)呈放射状分布在所述连接开口(11)的周围。
7.根据权利要求6所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述触头座(2)的周向设有第二开槽(23),所述第二开槽(23)在所述触头座(2)端面的开口能与所述第一开槽(13)在所述触头盘(1)外缘的开口对准。
8.根据权利要求1所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述杯状纵磁真空灭弧室触头还包括支撑件(3),所述支撑件(3)设置于杯型的所述触头座(2)的腔体内,所述支撑件(3)一端与所述触头座(2)的腔体底部固定连接,另一端与所述触头盘(1)靠近所述触头座(2)的一侧表面抵接。
9.根据权利要求1所述的杯状纵磁真空灭弧室触头,其特征在于,所述杯状纵磁真空灭弧室触头包括动触头和静触头,所述动触头和所述静触头结构相同。
10.一种真空灭弧室,其特征在于,包括如权利要求1-9中任一项所述的杯状纵磁真空灭弧室触头。
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