[实用新型]一种光刻机晶圆工作平台用清洁工具有效
| 申请号： | 202122729234.8 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN217639929U | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 韩洋;黄俊;徐晓敏 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 机晶圆 工作 平台 清洁 工具 | ||
1.一种光刻机晶圆工作平台用清洁工具，其特征在于，包括：
手持部，所述手持部包括手柄和连接端，所述连接端形成于所述手柄的末端；
清洁部，所述清洁部包括研磨盘和固定盘，所述研磨盘组装于所述固定盘的底面；
所述固定盘安装于所述连接端以使所述清洁部安装于所述手持部。
2.如权利要求1所述的清洁工具，其特征在于，所述手柄、所述连接端形成为圆柱状，所述连接端的外径大于或等于所述手柄的外径，所述手柄、所述连接端的中心轴同轴设置；
所述研磨盘、所述固定盘形成为圆柱状，所述研磨盘的外径大于所述固定盘的外径，所述研磨盘、所述固定盘的中心轴同轴设置。
3.如权利要求2所述的清洁工具，其特征在于，所述连接端的外径小于或等于所述研磨盘的外径。
4.如权利要求1所述的清洁工具，其特征在于，所述固定盘的顶面通过胶粘固定安装于所述连接端的底面内。
5.如权利要求4所述的清洁工具，其特征在于，安装完成的所述固定盘与所述连接端的中心轴同轴设置。
6.如权利要求1所述的清洁工具，其特征在于，所述手持部的材质选用无尘材质。
7.如权利要求6所述的清洁工具，其特征在于，所述手持部的材质选用金属材质或硬树脂材质。
8.如权利要求2所述的清洁工具，其特征在于，所述手柄的柱状侧面形成有防滑结构。
9.如权利要求1所述的清洁工具，其特征在于，所述手柄的长度为2.5-5cm，所述手柄的外径为0.5-3cm。
10.如权利要求9所述的清洁工具，其特征在于，所述手柄的长度为3.3cm，所述手柄的外径为2.5cm。
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