[实用新型]一种易清洗聚合反应釜

说明书

本申请涉及一种易清洗聚合反应釜，属于反应釜技术领域，其包括釜体，所述釜体包括上顶、侧壁和下底，所述侧壁中部设有支撑架，所述下底上端设有螺纹管，所述螺纹管与侧壁螺纹连接，所述支撑架下端滑动连接有底板，所述底板上端设有喷液环管，所述喷液环管开设有若干喷水孔，所述喷液环管一端连通有进液管。本申请具有便于清洗的效果。

技术领域

本申请涉及反应釜技术领域，尤其是涉及一种易清洗聚合反应釜。

背景技术

目前反应釜是指在里面进行物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，可实现工艺参数要求；工厂内采用聚合反应制备化工原料时，通常使用反应釜作为原料进行化学反应的容器。

相关的公告号为CN211645356U的中国专利公开了一种反应釜，包括釜体，釜体的内部具有反应腔，釜体的侧部和底部外还包裹有外套层，釜体和外套层的中间形成用于存储传热介质的容纳腔，外套层上设有传热介质出口和传热介质入口，传热介质出口和传热介质入口均与容纳腔相连通。

针对上述中的相关技术，发明人认为使用上述反应釜进行聚合反应生产产品时，将产品排出后，产品和未完全反应的原料沾附在反应釜内壁，对沾附的原料和产品进行清洗时，较为不便。

实用新型内容

为了便于对沾附的原料和产品进行清洗，本申请提供一种易清洗聚合反应釜。

本申请提供的一种易清洗聚合反应釜采用如下的技术方案：

一种易清洗聚合反应釜，包括釜体，所述釜体包括上顶、侧壁和下底，所述侧壁中部设有支撑架，所述下底上端设有螺纹管，所述螺纹管与侧壁螺纹连接，所述支撑架下端滑动连接有底板，所述底板上端设有喷液环管，所述喷液环管开设有若干喷水孔，所述喷液环管一端连通有进液管。

通过采用上述技术方案，使用上述反应釜对原料进行聚合反应后，将釜体内的原料和产品排出后，旋转下底使螺纹管与侧壁分离，再滑动底板，使底板与上顶正对，向进液管内通入高压清洗液，高压清洗液可从喷液环管的喷水孔喷出，进而对釜体内进行充分的喷洗，实现对釜体充分喷洗的同时，也便于对釜体内进行。

可选的，所述底板下端的四周设有倾斜的排液板。

通过采用上述技术方案，喷液环管对釜体进行喷洗时，排液板可对清洗液起到导向作用，清洗液可沿着排液板流下，减少了清洗液溅到地面上的问题。

可选的，所述排液板下端设有竖直的挡液板，所述挡液板连通有排液管。

通过采用上述技术方案，挡液板可对清洗液起到收集的作用，减少清洗液流到地面上的问题，排液管可将挡液板与排液板之间存留的清洗液排出。

可选的，所述支撑架滑动连接有移动板，所述移动板上端设有升降气缸一，所述升降气缸一的缸体竖直设置，所述升降气缸一的活塞杆与底板相连。

通过采用上述技术方案，将下底与侧壁分开后，滑动移动板，使底板与上顶正对后，启动升降气缸一，升降气缸一的活塞杆伸出，可带动底板上升，进而便于底板上端的喷液环管喷出清洗液对釜体内进行清洗。

可选的，所述移动板上端设有升降气缸二，所述升降气缸二的缸体竖直设置，所述升降气缸二的活塞杆连有下底板，所述下底板上端与下底相抵触。

通过采用上述技术方案，旋转下底，将下底与侧壁之间进行分离后，可将下底放置在下底板上端，下底板可对下底起到支撑作用，再滑动移动板，便于对下底进行挪运，将下底挪走后，同时启动升降气缸二，升降气缸二驱动底板升起，进而便于喷液环管对釜体内进行喷洗。

可选的，所述下底板开设有与下底相适配的凹槽，所述下底板上端设有旋转电机，所述旋转电机的输出轴设有主动齿轮，所述下底外侧设有与主动齿轮相啮合的从动锯齿。