[实用新型]一种远程等离子体清洗装置有效

专利信息
申请号: 202122746829.4 申请日: 2021-11-11
公开(公告)号: CN215997893U 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 裴胜男 申请(专利权)人: 合肥方本等离子体科技有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B08B13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230001 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 远程 等离子体 清洗 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种远程等离子体清洗装置,包括安装箱,所述安装箱内壁的顶部固定连接有等离子体发射器,所述安装箱内壁的底部固定连接有固定框,所述固定框顶部的两侧均固定连接有安装板,两个安装板向靠近的一侧均通过安装轴转动连接有夹持组件,安装轴远离夹持组件的一端贯穿安装板并延伸至安装板的外侧,安装轴的位于两个安装板外侧的一端均固定连接有第一锥齿轮,本实用新型涉及等离子体清洗技术领域。该远程等离子体清洗装置,驱动电机通过锥齿轮之间的啮合作用带动两个安装板之间的夹持组件和物件一起转动,清洗过程中无需手动对物件进行翻面操作,不仅减少了操作人员的工作量,而且提高了清洗效率和清洗质量。

技术领域

本实用新型涉及等离子体清洗技术领域,具体为一种远程等离子体清洗装置。

背景技术

等离子体清洗已逐步在半导体制造、微电子封装等行业普遍应用。所谓的等离子体清洗,就是用等离子体通过化学或物理作用时对工件(半导体器件生产过程中的电子元器件及其半成品、零部件、基板、印刷电路板等)表面进行处理,实现分子水平的污渍、沾污去除,提高表面活性的工艺。但是常规等离子体清洗过程中,待清洗的工件处于等离子体离化区域中,清洗过程中伴随着物理清洗过程,等离子体中电子、离子等高能活性离子对材料表面会产生很大的损伤和热效应,造成对半导体晶片、基板的损伤。

远程等离子体有别于传统等离子体处理,是将等离子体加工区(产生沉积、刻蚀、表面改性等过程的基体表面)远离等离子体放电区,再利用气流、电场、磁场等将等离子体引入加工区。传统的等离子清洗装置是将待清洗的物件放到清洗台上,先对一面进行清洗,再对另一面进行清洗,清洗步骤繁琐,不仅影响清洗效率,而且影响清洗质量。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种远程等离子体清洗装置,解决了传统的等离子清洗装置是将待清洗的物件放到清洗台上,先对一面进行清洗,再对另一面进行清洗,清洗步骤繁琐,不仅影响清洗效率,而且影响清洗质量的问题。

为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种远程等离子体清洗装置,包括安装箱,所述安装箱内壁的顶部固定连接有等离子体发射器,所述安装箱内壁的底部固定连接有固定框,所述固定框顶部的两侧均固定连接有安装板,两个所述安装板向靠近的一侧均通过安装轴转动连接有夹持组件,所述安装轴远离夹持组件的一端贯穿安装板并延伸至安装板的外侧,所述安装轴的位于两个安装板外侧的一端均固定连接有第一锥齿轮,所述安装板的两侧均通过安装架转动连接有传动杆,所述传动杆的顶端固定连接有第一锥齿轮相适配的第二锥齿轮,所述传动杆的底端贯穿固定框并延伸至固定框的内部,所述传动杆位于固定框内部的一端固定连接有第三锥齿轮,所述固定框内壁的底部固定连接有驱动电机,所述驱动电机的输出端固定连接有驱动杆,所述驱动杆的表面固定连接有与第三锥齿轮相适配的第四锥齿轮,所述驱动杆的右端通过转轴与固定框内壁的左侧转动连接。

优选的,所述夹持组件包括安装筒,所述安装筒内壁的顶部和底部均固定连接有滑轨,两个所述滑轨之间滑动连接有活动板,所述活动板的右侧固定连接有第一弹簧,所述第一弹簧远离活动板的一端与安装筒的内壁固定连接。

优选的,所述活动板的左侧固定连接有顶杆,所述顶杆远离活动板的一端贯穿安装筒并延伸至安装筒的外部。

优选的,所述顶杆位于安装筒外部的一端固定连接有固定板,所述固定板一侧的顶部和底部均转动连接有夹板,两个所述夹板之间通过第二弹簧弹性连接。

优选的,所述安装箱的正面通过合页铰接有箱门,所述箱门的正面开设有观察窗。

优选的,所述安装箱内壁的底部且位于固定框的两侧均滑动连接有集渣箱。

有益效果

本实用新型提供了一种远程等离子体清洗装置。与现有技术相比具备以下有益效果:

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