[实用新型]一种硅片超声波清洗装置有效
| 申请号： | 202122791064.6 | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN216323811U | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 吕明;郭城;李充;王永超 | 申请（专利权）人： | 济南科盛电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 山东瑞宸知识产权代理有限公司 37268 | 代理人： | 杜超 |
| 地址： | 250200 山东省济南*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 超声波 清洗 装置 | ||
1.一种硅片超声波清洗装置，包括清洗罐（1），其特征在于：清洗罐（1）的下端固定连接有多个支撑地脚（2），所述清洗罐（1）的上方设置有进液管（7），所述进液管（7）的一端固定连接有第一电磁阀（9），所述进液管（7）的下端固定连接有多个喷头（8），多个所述喷头（8）的输出端均贯穿清洗罐（1）的上端连接至其内部，所述清洗罐（1）的下端一侧固定连接有排液管（10），所述排液管（10）上固定连接有第二电磁阀（11），所述清洗罐（1）的内部设置有置料机构（12）。
2.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述清洗罐（1）的后端中间位置固定连接有超声波发生器（14），所述超声波发生器（14）的输出端连接至清洗罐（1）的内部。
3.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述清洗罐（1）的下侧前端固定连接有第一固定座（3），所述清洗罐（1）的前侧设置有密封盖（4），所述密封盖（4）的下端与第一固定座（3）转动连接。
4.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述清洗罐（1）的前后侧前端均固定连接有第二固定座（5），所述第二固定座（5）的前端均转动连接有L型连接杆（6）。
5.根据权利要求1所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述清洗罐（1）的内部两侧均固定连接有滑轨（13），所述置料机构（12）包括置料筒（15），所述置料筒（15）的两侧均开设有滑槽（16），所述滑槽（16）分别与对应滑轨（13）滑动连接。
6.根据权利要求5所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述置料筒（15）的上端开设有多个置料口（17），所述置料筒（15）的下端开设有多个排液孔（19）。
7.根据权利要求6所述的一种硅片超声波清洗装置，其特征在于：所述置料筒（15）的内部位于置料口（17）下端两侧的位置均固定连接有隔环（18）。
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