[实用新型]金属带材镀层生产用的真空密封装置及真空密封设备

说明书

本实用新型涉及金属带材生产领域，公开了一种金属带材镀层生产用的真空密封装置及真空密封设备，所述真空密封装置包括箱体，所述箱体内部形成有真空密闭空间；第一移动密封机构，设置于所述真空密闭空间内部，用于在所述真空密闭空间内部形成密封空间，所述第一移动密封机构包括两个密封辊，两个所述密封辊相对错位设置，其中一个所述密封辊的高度可调节，用于配合工作以协助运输金属带材；通过上述技术方案，根据实际金属带材的厚度，调节两个密封辊之间的辊间距，能够适应不同尺寸的金属带材镀层生产的真空密封，且密封效果好，可靠性高，降低了生产成本，提高了成品生产的效率和成品的质量。

技术领域

本实用新型涉及金属带材生产领域，具体地涉及一种金属带材镀层生产用的真空密封装置以及一种金属带材镀层生产用的真空密封设备。

背景技术

金属带材连续真空物理沉积镀层(镀膜)技术是一种代替传统热浸镀、电镀等带材外表面处理的高新技术，它是指带材经由连续真空密封装置逐级减压进入镀层室进行镀层(镀膜)，再通过连续真空密封装置逐级增压回到大气的连续式生产技术。金属带材连续真空物理沉积技术生产效率高，容易达到规模产量，真正实现了从原料带卷到镀膜带材的连续生产。

我国目前金属带材连续物理沉积技术和设备主要为间断型，连续型真空物理沉积技术和设备发展缓慢，特别是连续真空密封装置作为金属带材真空连续镀层生产的重要设备，其密封性的设计制造要求高。现有的金属带材连续真空镀层生产线的真空密封装置，虽然设有真空腔室，但对于尺寸不一的金属带材，其密封性较差，获得所需真空度的难度大，且设备维护不便。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的适用性差以及密封性的问题，提供一种金属带材镀层生产用的真空密封装置及真空密封设备，该真空密封装置具有适用性广以及密封性好的效果。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种金属带材镀层生产用的真空密封装置，所述真空密封装置包括：

箱体，所述箱体内部形成有真空密闭空间；

第一移动密封机构，设置于所述真空密闭空间内部，用于在所述真空密闭空间内部形成密封空间，所述第一移动密封机构包括两个密封辊，两个所述密封辊相对错位设置，其中一个所述密封辊的高度可调节，用于配合工作以协助运输金属带材。

可选地，其中高度可调的所述密封辊设置于另一个所述密封辊的顶部。

可选地，所述真空密封装置还包括轴承座及机架，所述轴承座及机架设置于所述箱体的外部，并与两个所述密封辊连接，用于支撑两个所述密封辊并调节位于顶部的所述密封辊的高度。

可选地，所述第一移动密封机构还包括宽度可调节的密封出口，以适应不同宽度的所述金属带材。

可选地，所述密封出口包括：

顶部密封；

底部密封；

两个侧面密封，设置于所述顶部密封、底部密封之间，两个所述侧面密封之间的相对距离可调。

可选地，所述密封出口在水平方向上可移动，且贴合设置于两个所述密封辊远离所述箱体入口的一侧。

可选地，所述真空密封装置还包括第二移动密封机构，用于对所述金属带材进行初步密封；所述第二移动密封机构与所述第一移动密封机构的结构相同，且设置于所述箱体外，所述第二移动密封机构的密封出口与所述箱体的入口连接。

可选地，所述箱体包括：

真空获得接口，所述真空获得接口开设在所述箱体底部；

第一开口，所述第一开口开设在所述箱体顶部；

盖板，所述盖板铰接在所述第一开口内部；