[实用新型]处理盒

说明书

本实用新型涉及一种处理盒，包括感光单元和显影单元；感光单元包括感光框架、感光鼓和第一驱动构件，显影单元包括显影框架、显影辊、搅拌构件和第二驱动构件；其中，显影框架内设有粉仓和显影仓，搅拌构件设置在粉仓内，显影辊设置在显影仓的纵向开口部；显影仓位于粉仓的上方，搅拌构件旋转时将粉仓内的显影剂向上输送到显影仓；显影框架上设有一个或多个与显影仓连通的通孔，通孔内设有塞盖，塞盖具有被透气膜封盖的排气孔。处理盒组装测试后，可打开塞盖从通孔吸除显影仓内的残留显影剂；处理盒工作时，显影框架内部产生的气流可以通过透气膜与外界流通，避免因显影框架内外部产生压力差而导致的显影剂泄露问题。

技术领域

本实用新型涉及一种用于电子照相成像设备的处理盒。

背景技术

在例如激光打印机、复印机等的电子照相成像设备中通常具有以可拆卸方式安装的处理盒。该处理盒通常包括感光单元和显影单元，感光单元设有用于形成静电潜像的感光鼓；显影单元包括存储显影剂的粉仓和显影仓，粉仓内设有用于搅拌显影剂并将显影剂从粉仓输送到显影仓的搅拌构件，显影仓内设有显影辊和使显影剂附着到显影辊表面的送粉辊。处理盒工作时，附着到显影辊表面的显影剂供给至感光鼓，以将感光鼓表面的静电潜像显影。

现有技术中，通常在显影辊、送粉辊和搅拌构件的转轴与显影框架的转动连接位置加设密封件，以防止显影剂从此处泄露。在处理盒处于非工作状态时，这些密封件的设置可以很好地防止显影剂泄露。但在处理盒处于工作状态时，显影框架的内部空间随着搅拌构件的旋转会产生气流，使显影框架内部空间的压力增大，进而在显影框架内外部形成压力差，导致显影剂容易随气流从密封件等处产生泄露。

发明内容

本实用新型的主要目的是提供一种可有效防止处理盒工作过程中显影剂从显影框架内泄露的处理盒。

为了实现上述的主要目的，本实用新型提供了一种处理盒，包括：

感光单元，包括感光框架、感光鼓和第一驱动构件，感光鼓由第一驱动构件驱动旋转；

显影单元，包括显影框架、显影辊、搅拌构件和第二驱动构件，显影辊和搅拌构件由第二驱动构件驱动旋转；显影框架内设有粉仓和显影仓，搅拌构件设置在粉仓内，显影辊设置在显影仓的纵向开口部；

其中，显影仓位于粉仓的上方，搅拌构件旋转时将粉仓内的显影剂向上输送到显影仓；显影框架上设有一个或多个与显影仓连通的通孔，通孔内设有塞盖，塞盖具有被透气膜封盖的排气孔。

上述技术方案中，显影框架上设有与显影仓连通的通孔，处理盒处于工作状态时，显影框架内部产生的气流可以通过透气膜向外界流通，避免因显影框架内部压力过高而导致的显影剂泄露问题。进一步地，在处理盒组装测试后，可打开塞盖从通孔吸除显影仓内的残留显影剂，便于进行显影仓内残留显影剂的清除作业，提高生产效率。

根据本实用新型的一种具体实施方式，塞盖包括中空主体部和底壁，透气孔设置在塞盖的底壁上，透气膜连接在塞盖底壁的内表面和/或外表面。

根据本实用新型的一种具体实施方式，透气膜与塞盖焊接连接或粘结连接。其中，优选采用焊接连接。

根据本实用新型的一种具体实施方式，透气膜为透气性的塑料膜；优选的，该塑料膜为PE膜。

根据本实用新型的一种具体实施方式，所述通孔为多个，多个通孔沿显影辊的纵向设置在显影框架的上表面。

根据本实用新型的一种具体实施方式，搅拌构件包括弹性搅拌叶片；在搅拌叶片旋转靠近显影仓的入粉口时，搅拌叶片从与显影框架内壁抵接的状态变化为与显影框架内壁脱离的状态；其中，搅拌叶片与显影框架内壁脱离时将产生向斜向上的弹性回复力，更有利于将粉仓内的显影剂向上抛投到显影仓内。

根据本实用新型的一种具体实施方式，显影单元还包括用于检测粉仓内显影剂余量的光检测装置，该光检测装置包括：