[实用新型]压印衬底

权利要求书

1.一种压印衬底，用于固定于压印设备的载物台上，

所述压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，

其特征在于，所述压印衬底包括：

功能部，所述功能部用于涂覆光固化或热固化胶水，所述功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，所述有效区用于作为纳米压印图形的承载区域；和

稳定部，所述稳定部固定设置于所述功能部的无效区上，且稳定部突出于所述功能部，所述稳定部的重力用于抵消或部分抵消所述胶水固化变形的内缩应力。

2.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的两面均为平整的平面，两面均可以作为承载纳米压印图形的有效区，所述稳定部设置在所述功能部的其中一个平面上或者所述功能部的两面上。

3.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述稳定部围绕所述功能部的边缘区域设置，所述功能部的厚度不大于0.55毫米，所述稳定部的厚度为功能部厚度的1-5倍。

4.根据权利要求3所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的厚度不大于0.3毫米。

5.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部由玻璃、石英、刚玉、多晶硅、金刚石或塑料制成。

6.根据权利要求5所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部为晶圆玻璃。

7.根据权利要求6所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的直径不小于6英寸。

8.根据权利要求3或4所述的压印衬底，其特征在于，其中所述稳定部远离所述功能部的表面上开设有一个或多个放射状沟槽，用于在压印的过程中将胶水排出。

9.根据权利要求8所述的压印衬底，其特征在于，其中所述放射状沟槽为弧形，所述沟槽的弧形弯曲方向与旋涂工艺的旋转方向一致。

10.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述稳定部朝向压印设备的载物台放置，稳定部配置成能够保持所述功能部用于承载纳米压印图形的一面平行于所述载物台。

11.根据权利要求1-7中任一项所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部和所述稳定部由相同的材料一体成型。

12.根据权利要求11所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部与所述稳定部之间具有平滑的过渡区域。

13.根据权利要求1-7中任一项所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部和所述稳定部贴合，并经胶粘固定。

14.根据权利要求13所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的外缘与所述稳定部的外缘基本重合。

15.根据权利要求3或4所述的压印衬底，其特征在于，还包括由所述稳定部围绕的垫板，所述垫板与所述功能部贴合，并置于所述功能部与所述载物台之间，用于支撑所述功能部。

16.根据权利要求15所述的压印衬底，其特征在于，所述垫板具有与所述载物台上的真空线对应的通孔。